SAMCO RIE-600iPC (ICP)

• Специализированная установка травления высокоплотной индуктивно-связанной плазмой с кассетной загрузкой для НИОКР и производства
• Назначение: изготовление SiO₂ шаблонов для (высокоскоростное травление SiO₂) и высокоскоростное травления SiC для производства мощных приборов; производство оптических устройств (оптических волноводов и микролинз); производство микроканалов;  производство различных датчиков    
• Рабочая камера: из алюминия
• Загрузочная камера: алюминиевая, с вакуумным роботом-перегрузчиком
• Перемещение пластин: вакуумным автоматическим манипулятором
• Пластины:  до 150 мм, оперативное управление температурой пластины за счет гелиевого охлаждения обратной стороны 
• Электроды: ИСП –электрод (верхний) — Planar ICP Coil Electrode, нижний – регулируемый по высоте электрод. Высоковольтный электростатический держатель пластины с гелиевым охлаждением обратной стороны
• Источник ИСП: 3000Вт (Planar ICP Coil), 13,56МГц. Источника смещения – 600/1000/3000Вт, 13,56МГц
• Газовая система: газовые линии с РРГ 
• Применяемые газы: SF₆, O₂, Ar, Не, N₂ и прочие
• Вакуумная система: для рабочей камеры — турбомолекулярный насос и безмасляный форвакуумный насос; для загрузочной камеры — турбомолекулярный насос  и безмасляный форвакуумный насос; для кассетной камеры — безмасляный форвакуумный насос
• Система управления: компьютеризированная сенсорная панель обеспечивает контроль за параметрами процесса, ввод и хранение технологических программ, протоколирование данных
• Габариты: (1080x2000x1748) мм
• Окончание процесса: визуально/по интерферометру
• Опционно: до 8 газовых линий

к списку