SAMCO RIE-400iPB (ICP)

• Автоматическая установка высокоскоростного глубокого травления кремния индуктивно-связанной плазмой с  загрузочным блоком для НИОКР
• Назначение: производство МЭМС (акселерометров, гироскопов, актюаторов и пр.); производство головок струйных принтеров; создание переходных отверстий в кремнии при производстве 3D-интегрированных структур (травление отверстий в пластинах глубиной до 600 мкм); производство медицинских приборов (системы полного микроанализа и пр.); возможность проведения Бош-процессов 
• Рабочая камера: из алюминия, внутренний ø320мм
• Загрузочная камера: алюминиевая, (340х445х144)мм. Загрузка пластин ручная
• Перемещение пластин: линейным вакуумным автоматическим манипулятором
• Пластины:  до ø4”, оперативное управление температурой пластины за счет гелиевого охлаждения обратной стороны 
• Электроды: ИСП –электрод (верхний) — High-density ICP Plasma Source, нижний –электрод с подложкодержателем
• Подложкодержатель: ø106мм, алюминиевый,  электростатический захват, гелиевое охлаждение
• Источник ИСП: 1000Вт, 13,56МГц, с автоматическим согласованием сопротивления. Источника смещения – 300Вт, 13,56МГц, с автоматическим согласованием сопротивления
• Газовая система: 4 газовые линии с РРГ, продувочный азот, гелий
• Применяемые газы: CHF₃, C₄F₈, SF₆, O₂, Ar, Hе, N₂ и прочие
• Вакуумная система: для рабочей камеры — турбомолекулярный насос 1300л/сек и безмасляный форвакуумный насос 1300л/мин; для загрузочной камеры — безмасляный форвакуумный насос
• Контроль вакуума: в рабочей камере — мембранный вакуумметр (1, 33х10²÷1,33х10^-2) Па; в загрузочной камере – кристаллический вакуумметр (атмосфера÷1х10^-2) Па
• Система управления: компьютеризированная сенсорная панель обеспечивает контроль за параметрами процесса, ввод и хранение технологических программ, протоколирование данных.
• Электроэнергия: 200В, 3ф, 75А
• Очищенный сжатый воздух: (5÷7) кг/см²
• Азот: на установку — 1 кг/см², на насосы — (1÷7) кг/см²
• Охлаждающая вода: установка — 2 л/мин, насосы — (4÷8) л/мин
• Вытяжная вентиляция: от корпуса установки, газового шкафа, насосов
• Габариты: (986x1790x1975) мм
• Опционно: дополнительные газовые линии, система оповещения окончания процесса по интерферометру; циркуляционная система для охлаждения турбомолекулярного и безмасляного насосов; комплект оснастки для травления SiO₂

к списку