SAMCO RIE-230iPC (ICP)

• Автоматическая установка травления индуктивно-связанной плазмой с кассетной загрузкой для производства, анализа отказов ИС
• Назначение: высокоскоростное глубокое травление SiO₂ и полупроводниковых соединений — InP, GaN, AlGaAs, GaAs; щадящее травление GaN, GaAs, InP для производства электронных и светоизлучающих приборов; травление ферроэлектрических материалов для приборов памяти; высокоскоростное травление для производства МЭМС; травление органических соединений  
• Вакуумируемая загрузочная камера. Позволяет использовать хлорсодержащие и фторсодержащие реагенты
• Перемещение пластин: вакуумным автоматическим манипулятором
• Пластины: ø2” – до 12шт., ø4” – до 3шт., максимально — до ø8”
• Электроды: ИСП –электрод (верхний) — Tornado Coil Electrode. Механический или электростатический держатель пластины с гелиевым охлаждением обратной стороны для управления температурой пластины
• Температура подложкодержателя: (-10÷250)°C   
• Источник ИСП: 1000Вт (Tornado ICP Coil)/ 3000Вт (Planar ICP Coil) /3000Вт (SSTC Coil), 13,56МГц, с автоматическим согласованием сопротивления. Источника смещения – 300/600/1000Вт, 13,56МГц, с автоматическим согласованием сопротивления
• Газовая система: газовые линии с РРГ, продувочный азот
• Применяемые газы: Cl₂, BCl₃, CHF₃, O₂, Ar, N₂ и прочие
• Вакуумная система: турбомолекулярный насос и роторный форвакуумный насос
• Система управления: компьютеризированная сенсорная панель обеспечивает контроль за параметрами процесса, ввод и хранение технологических программ, протоколирование данных. Полная автоматизация процесса
• Габариты: установка — (1206x2015x2063,5) мм
• Окончание процесса: визуально/по интерферометру
• Опционно: до 8 газовых линий; компьютер для управления процессом

к списку