SAMCO RIE-212IP (ICP)

• Высокопроизводительная автоматическая установка травления индуктивно-связанной плазмой высокой для производства светодиодов
• Назначение: травление мезаструктур  GaN;  травление четверных полупроводниковых соединений, например AlInGaP;  травление сапфира; структурирование поверхности  
• Рабочая камера: ø440мм из алюминия
• Загрузочная камера: алюминиевая, (520х440х205)мм с ручнам открытием/закрытием камеры загрузки.
• Пластины:  ø2” – до 12 шт., электронное оперативное управление температурой пластины
• Электроды: ИСП –электрод (верхний) — Tornado Coil Electrode, нижний – электрод-подложкодержатель из алюминия ø238мм 
• Источник ИСП: до 1000Вт (Tornado ICP Coil), 13,56МГц, с автоматическим согласованием сопротивления. Источника смещения – до 500Вт, 13,56МГц, с автоматическим согласованием сопротивления
• Газовая система: 4 газовые линии с РРГ
• Азот: установка — давление 1 кг/см², насосы — давление (1÷7) кг/см² 
• Вакуумная система: для рабочей камеры — турбомолекулярный насос 1300л/сек и безмасляный форвакуумный насос 1000л/мин; для загрузочной камеры — роторный форвакуумный насос 840л/мин
• Контроль вакуума: в рабочей камере — мембранный вакуумметр (1,33÷1,33х10^-3) Па; в загрузочной камере – кристаллический вакуумметр (атмосфера÷1х10^-2) Па
• Система управления: компьютеризированная сенсорная панель обеспечивает контроль за параметрами процесса
• Электроэнергия: 200В, 3ф, 75А; заземление — Type D ground
• Очищенный сжатый воздух: (5÷7) кг/см²
• Охлаждающая вода: установка — (3÷4) л/мин, насосы — (4÷8) л/мин
• Вентиляция от корпуса установки, газового шкафа и насосов
• Габариты: (1000x1375x1670) мм
• Опционно: до 8 дополнительных газовых линий, различные варианты насосов, система оповещения окончания процесса

к списку