SAMCO RIE-200LC

• Полностью автоматическая установка реактивно-ионного травления с вакуумируемыми кассетным загрузчным блоком и системой перемещения для серийного производства. Конструкция позволяет применять в процессах агрессивные/токсичные газы (например, хлорсодержащие)
• Назначение: высококачественное анизотропное травление кремниевых пленок (Si, поли-Si, SiO₂, Si₃N₄, прочие); травление различных металлических пленок; травление полупроводниковых соединений (GaAs, GaN, InP и прочих); озоление фоторезиста и формирование контактных окон; производство волноводных устройств; микромеханическое производство
• Загрузочный шлюз: кассетный, вакуумируемый
• Перемещение пластин: вакуумный робот
• Пластины:  до ø8” или партии из нескольких пластин
• Электроды: верхний — алюминиевый электрод ø240мм с распылителем газа, нижний – из нержавеющей стали электрод-подложкодержатель ø240мм  и с жидкостным охлаждением; фиксированный зазор между электродами.
• Электростатический держатель и температурная стабилизация пластины.
• ВЧ-генератор: 300Вт, 13,56МГц, с автоматическим согласованием сопротивления
• Газовая система: 3 газовые линии процессных газов с РРГ давлением 1 кг/см², продувочный азот с давлением 1 кг/см²
• Применяемые газы: хлор- и фторсодержащие, инертные
• Вакуумная система: турбонасос 200л/сек и роторный форвакуумный насос 250л/мин
• Система управления: компьютеризированная сенсорная панель обеспечивает контроль за параметрами процесса, ввод и хранение технологических программ.  Полная автоматизация процесса (одной кнопкой) и возможностью ручнго управления
• Электроэнергия: 200В, 3ф
• Очищенный сжатый воздух: (5÷7) кг/см²
• Охлаждающая вода: давление — (3÷5) кг/см²
• Габариты: (1206x2000x2100) мм
• Окончание процесса: по оптическому интерферометру 
• Опционно: до 6 дополнительных газовых линий, система оповещения окончания процесса, скруббер для очистки выхлопного газа, вакумные насосы

к списку