SAMCO RIE-100iPC (ICP)

• Высокопроизводительная автоматическая установка травления индуктивно-связанной плазмой фторсодержащих газов с атмосферной кассетной загрузкой для НИОКР, производства и анализа отказов ИС
• Назначение: вскрытие пассивирующих материалов, включая Si₃N₄, SiO₂, SiO_xN_y; озоление фоторезиста; анизотропное травление всех типов кремнесодержащих пленок, полупроводниковых соединений и тугоплавких металлов, включая Si, SiO₂, поли-Si, Si₃N₄, GaAs и Mo; производство приборов на поверхностных аккустических волнах
• Загрузочная камера: для одной или двух кассет
• Перемещение пластин: атмосферным линейным автоматическим манипулятором с вакуумным захватом и устройством центрирования пластины
• Пластины: до ø8” (100/200мм)
• Электроды: ИСП –электрод (верхний) — Tornado Coil Electrode; электростатический держатель пластины с гелиевым охлаждением обратной стороны для управления температурой пластины
• Температура подложкодержателя: (-10÷250)°C   
• Источник ИСП: 1000Вт, 13,56МГц, с автоматическим согласованием сопротивления. Источника смещения – 300Вт, 13,56МГц, с автоматическим согласованием сопротивления
• Газовая система: газовые линии с РРГ, продувочный азот 
• Применяемые газы: CF₄, CHF₃, SF₆, O₂, Ar, N₂
• Вакуумная система: турбомолекулярный насос и роторный форвакуумный насос
• Система управления: компьютеризированная сенсорная панель обеспечивает контроль за параметрами процесса, ввод и хранение технологических программ.  Полная автоматизация процесса
• Габариты: основная установка — (1140x1690x1970) мм
• Окончание процесса: по оптическому интерферометру
• Опционно: до 8 газовых линий

к списку