SAMCO PD-3800L (PECVD)

• Автоматическая установка анодного плазмо-активированного химического осаждения тонких пленок для массового производства с камерой загрузки
• Назначение: осаждение кремнесодержащих тонких пленок: оксидов кремния (SiO_x), нитридов кремния (Si_xN_y), аморфного кремния (a-Si:H), керамических тонких пленок
• Загрузка: через загрузочный шлюз
• Перемещение пластин: линейным автоматическим манипулятором
• Подложкодержатель: ø350 мм
• Обработка по одной пластине или групповая
• Использование загрузочного шлюза позволяет постоянно держать рабочую камеру в условиях вакуума, что особенно важно при использовании легирующих газов
• Обработка по одной пластине или групповая
• Температура подложкодержателя: (20÷400)°C   
• Мощность ВЧ-генератора — 300Вт, опционно возможна поставка НЧ-генератора
• Газовая система: до 8 газовых линий, опционно возможна подача жидкого реагента
•  Применяемые газы: SiH₄, NH₃, N₂ и т.д.
• Вакуумная система: турбонасос, механический бустерный насос и роторный насос
• Система управления: с сенсорного компьютеризированного дисплея
• Вытяжная вентиляция: для выхлопа форвакуумного насоса (от рабочей камеры) для обеспечения безопасности персонала
• Окончание процесса: оптическое определение момента завершения процесса

к списку