SAMCO PD-3800 (PECVD)

• Автоматическая установка анодного плазмо-активированного химического осаждения тонких пленок с открытой загрузкой для НИОКР и производственных задач
• Назначение: осаждение кремнесодержащих тонких пленок: оксидов кремния (SiO_x), нитридов кремния (Si_xN_y), оксинитридов кремния (SiO_xN_y), аморфного кремния (a-Si:H) и алмазоподобных углеродных покрытий
• Загрузка ручная, открытая: подложки 210 х 295 мм
• Нижний электрод: 360 мм
• Обработка по одной пластине или групповая
• Температура подложкодержателя: (20÷400)°C   
• Мощность ВЧ-генератора — 300Вт, опционно возможна поставка НЧ-генератора
• Газовая система: до 8 газовых линий, опционно возможна подача жидкого реагента
• Применяемые газы: SiH₄, NH₃, N₂ и т.д.
• Вакуумная система: механический бустерный насос и роторный насос
• Система управления: с сенсорного компьютеризированного дисплея
• Вытяжная вентиляция: для выхлопа форвакуумного насоса (от рабочей камеры) для обеспечения безопасности персонала
• Окончание процесса: оптическое определение момента завершения процесса   

к списку