SAMCO PC-300(RIE/PE)

• Автоматическая настольная установка плазменной очистки (реативно-ионное/плазменное травление) с  ручной загрузкой для НИОКР и производства
• Назначение: плазменная очистка и обработка поверхности стекла, металлов, полимеров, полупроводников, керамики и пр.; очистка поверхности пластиковых корпусов и выводных рамок; прецезионная очистка оптических компонентов и матриц; обработка поверхности органических пленок; озоление фоторезиста; удаление органических загрязнений; улучшение адгезии
• Рабочая камера: из нержавеющей стали, (382x356x209) мм. Смотровое окошко ø66 мм. Ручное открытие/закрытие камеры
• Пластины:  ø2” – до 18шт., ø4” – до 6шт. на одном лотке, максимум – 2 лотка
• Электроды: алюминиевые, параллельные, (320×230) мм. Зазор между электродами регулируется
• Возможные режимы обработки: RIE, PE или режим нисходящего потока RIE-режим – однополочный процесс, двухполочный — опционно PE-режим – только однополочный процесс, двухполочный — невозможен 

• Источник ВЧ: 300Вт, 13,56МГц
• Газовая система: 1 газовая линия с РРГ с давлением 1 кг/см², продувочный азот
• Применяемые газы: O₂, Ar, N₂
• Вакуумная система: роторный масляный насос, 400 л/мин
• Контроль вакуума: мановакуумметр Пирани (1х10⁵÷5х10^-2) Па
• Система управления: компьютеризированная сенсорная панель обеспечивает контроль за параметрами процесса, ввод и хранение до 100 технологических программ, протоколирование данных. Возможность ручного управления
• Электроэнергия: 200В, 3ф, 15А
• Очищенный сжатый воздух: (5÷7) кг/см²
• Азот: на установку — 1 кг/см², 30 ст.л./мин; на безмасляные насосы — (0,5÷1) кг/см², 5ст.л./мин
• Вытяжная вентиляция от  насоса, патрубок NW 25×1
• Габариты: установка — (500x690x600) мм, тумба — (500x571x792) мм; вакуумный насос — (170x241x586) мм (габариты насоса могут изменяться в зависимости от модели)
• Опционно: безмасляный форвакуумный насос; дополнительная газовая линия с РРГ

к списку