SAMCO PC-1100(RIE/PE)

• Автоматическая настольная установка плазменной очистки (реативно-ионное/плазменное травление) с  ручной загрузкой для НИОКР и производства
• Назначение: очистка поверхности пластиковых корпусов, оснований жидкокристаллических дисплеев, многочиповых модулей и гибридных ИС;  прецезионная очистка оптических компонентов; обработка поверхности текстильных и полимерных материалов; озоление фоторезиста; удаление пасты для толстопленочных микросхем; удаление органических загрязнений
• Рабочая камера: из нержавеющей стали, (459x615x459) мм. Смотровое окошко ø66 мм в алюминиевой двери камеры с ручным открытием/закрытием
• Пластины:  от ø2” до ø 300 мм
• Электроды: алюминиевые, параллельные. Заземленный электрод — (405×410) мм, подключенный ВЧ-источнику электрод — (350×425) мм
• Возможные режимы обработки: RIE, PE или режим нисходящего потока
• Источник ВЧ: до 600Вт, 13,56МГц
• Газовая система: 2 газовых линии с РРГ, продувочный азот
• Применяемые газы: CF₄, O₂, Ar, N₂ и прочие
• Вакуумная система: форвакуумный насос
• Контроль вакуума: мембранный мановакуумметр (1,33х10³÷1,33х10^-1) Па
• Система управления: компьютеризированная сенсорная панель обеспечивает контроль за параметрами процесса, ввод и хранение до 100 технологических программ, протоколирование данных. Возможность ручного управления
• Электроэнергия: 480В, 3ф, 60Гц, 20А
• Очищенный сжатый воздух: (5÷7) кг/см²
• Азот: на установку и на безмасляные насосы
• Вытяжная вентиляция от  насоса, патрубок NW 25×1
• Габариты: установка — (868x939x602) мм, тумба — (860x850x703) мм; вакуумный насос — габариты насоса могут изменяться в зависимости от модели
• Опционно: дополнительные газовые линии с РРГ; дополнительные рабочие лотки; мощный ВЧ-генератор (1 кВт)

к списку