VERSALINE PECVD

  • Установка плазмостимулированного осаждения из газовой фазы для крупносерийного производства
  • Подложки размером до 8”
  • Варианты загрузки: прямая ручная загрузка; загрузка через шлюз (одиночные пластины или образцы); кассетная загрузка пластин или образцов
  • Библиотека стандартных технологических процессов осаждения: диэлектриков (SiO2, SiNx, SiOxNy); полупроводников (SiC, a-Si)
  • Возможность легирования (для варианта с шлюзовой загрузкой), автоматизированная программа очистки
  • 279-мм подложкодержатель (электрод), цифровые регуляторы массового расхода,  до 8 газовых каналов (4 – стандартно)
  • Температура подложкодержателя (электрода) 80÷350°C, температура стенок реактора и распылителя до 200°C
  • Источник RIE 600Вт 13,56 МГц (LF генераторы по запросу), многофункциональное комплексное управление оконечными устройствами, протокол внештатных ситуаций, различные уровни доступа пользователей, управление процессом в реальном времени с визуальным отображением данных
  • Форвакуумный безмасляный насос 600 м3/ч
  • Электропитание: 380В, 50Гц, 3ф; 200÷230В, 50/60Гц
  • Габариты: 207,8х188,7х64,0см – вариант с автоматическим шлюзом

к списку