EQ-PCE-3

• Компактная установка плазменной предочистки кристаллических подложек и удаления наноразмерных органических загрязнений
• Назначение: проведение процессов очистки и удаления наноразмерных органических загрязнений на пластинах до 2” с использованием различных газов
• Скорость удаления органических загрязнений – около 10 нм/мин при высоком уровне мощности RF-источника
• Источник плазмы: RF-источник, 13,56 МГц, режимы 7 / 11 / 18 Вт
• Ручная загрузка-выгрузка подложек, опционно — кварцевая кассета-лодочка для пластин
• Цифровой мановакууметр
• Кварцевая процессная камера объемом 0,7 литра и размерами: ø3” х 7”, с дверкой на петлях для облегчения загрузки
• Используемые газы: аргон (Ar), азот (N₂), воздух, газовые смеси (в .ч. с содержанием <5% водорода (H₂)) в зависимости от вида обрабатываемого материала
• Высокоскоростной двухступенчатый вакуумный насос производительностью 13,6 м³/ч
• Возможен апгрейд установки до модели EQ-PDC-32G-LD
• Электропитание: 240В, 50/60Гц, 1ф
• Вес: блок плазменной очистки — 18,1кг,  упаковочный полный — 45,36 кг
• Габариты: 40″ x 24″ x 26″

к списку