FHR.Micro.160-IBE-RIE

• Лабораторная установка ионно-лучевого и реактивно-ионного травления
• Назначение: травление меди (Cu), кремния ( Si), галлия (Ga) и прочих материалов
• Возможность вращения и наклона подложкодержателя с подложками диаметром 4”
• Ручная загрузка-выгрузка подложек
• Ручное управление
• Процессная камера из нержавеющей стали
• Источники  ионно-лучевого и реактивно-ионного травления
• Электрод для травления диаметром 250 мм
• Процессные газы: аргон (Ar), азот (N₂), кислород (O2), фтор (F2) и прочие
• Опционно: загрузочный шлюз с автоматической транспортировкой подложек

к списку