AVS VISION 420 RIE

• Установка реактивно-ионного бесщелочного (в основном соединениями фтора) травления широкого спектра материалов и подложек для НИОКР, прототипирования, пилотных линий  и мелкосерийного производства
• Загрузка: 37х2”, 19х3”, 9х4”, 4х6”, ø16” – для образцов пользователя
• Библиотека стандартных технологических процессов травления: диэлектриков (в т.ч. SiN_x, SiO₂, a-Si, SiO_xN_y, SiC, Ta₂O₅), полимеров (в т.ч. полиимид, фоторезист), подготовка поверхности ( изменение кислородом свойств поверхности структурированного сапфира), текстурирование поверхности твердотельных излучателей и солнечных элементов
• 406-мм подложкодержатель, открытая загрузка для удобного доступа при индивидуальной и групповой обработке, цифровые регуляторы массового расхода газа — до 8 газовых каналов (4 – стандартно)
• Температура термостабилизируемого подложкодержателя 20÷25°C
• Источник емкостной плазмы 600Вт 13,56 МГц (опция — 1000Вт 13,56 МГц), небольшая занимаемая площадь (<1,0 м²), комплексное управление оконечными устройствами, протокол внештатных ситуаций, различные уровни доступа пользователей, управление процессом в реальном времени с визуальным отображением данных
• Сухой форвакуумный насос 1600 л/мин (опционно — 1600 л/мин); турбомолекулярный насос 300 л/с
• Электропитание: 380÷415В, 50Гц; 220÷230В, 50/60Гц
• Габариты: 188,0х114,6х66,7см

к списку