VISION 410 PECVD

Установка плазмостимулированного газофазное осаждения пленок с ручной загрузкой для НИОКР, полупроводникового производства и научных исследований в материаловедении для однопластинной или групповой обработки
Загрузка: 37х2”, 19х3”, 9х4”, 4х6”, ø16” – для образцов пользователя
Осаждаемые слои: SiO₂, SiN_x, SiC, a-Si, SiO_xN_y
Оптимизированный распылитель для обеспечения высокой однородности осаждения, 406-мм подложкодержатель, высокотемпературный электрод (80÷350°C), небольшая занимаемая площадь (<1,0 м²), до 8 газовых линий (6 каналов стандартно)
Источник плазмы и электрод на 600Вт 13,56 МГц (1200Вт 100-460 кГц опционно)
Нагреваемые элементы камеры для обеспечения высокой чистоты
Система обеспечения вакуума 600 м³/ч
Электропитание: 380÷415В, 50Гц; 220÷230В, 50/60Гц
Габариты: 188,0х114,6х66,7см

Обратная связь