VISION 322 PE/RIE

• Установка плазмохимического/реактивно-ионного травления для НИОКР, прототипирования и мелкосерийного производства, для фундаментальных исследований материалов и преобразования поверхности
• Загрузка: 21х2”, 9х3”, 5х4”, 1х6”, 1х8”, 1х12”
• Библиотека стандартных технологических процессов травления: диэлектриков (травление фтористыми соединениями SiN_x, SiO₂, a-Si, SiO_xN_y, SiC, Ta₂O₅), металлов (травление фтористыми соединениями), полимеров (в т.ч. полиимид, бензоциклобутен, фоторезист), полупроводниковых материалов и соединений (SiC, InP и пр.)
• Подготовка поверхности (в т.ч. изменеие кислородом свойств поверхности структурированного сапфира)
• 305-мм подложкодержатель, открытая загрузка для удобного доступа, цифровые регуляторы массового расхода (закрытие металла, изоляция),  до 10 газовых каналов (4 – стандартно)
• Температура термостабилизируемого подложкодержателя 5÷40°C
• Источник емкостной плазмы 600Вт 13,56 МГц, небольшая занимаемая площадь (<0,6 м²), комплексное управление оконечными устройствами, протокол внештатных ситуаций, различные уровни доступа пользователей, управление процессом в реальном времени с визуальным отображением данных
• Высокопроизводительная (250 л/с) система обеспечения вакуума уровня 1,0х10^-6 торр
• Электропитание: 380÷400В, 50Гц, 3ф, 16А; 200÷208В, 60Гц, 3ф, 25А
• Габариты: 117,2(214,7)х93,4х73,0см

к списку