ULVAC SME-200E cluster (PVD)

  • Автоматическая кластерная установка физического осаждения из газовой фазы для НИОКР и производственных целей
  • Назначение: осаждение пьезоэлектрических слоев, например: свинец-цирконий-титан (Pb(Zr,Ti) O3); пленок оксидов индия и олова (ITO) для солнечных элементов; металлов, нитридов кремния и алюминия, оксида алюминия, тантала и других
  • Подложки: кремниевые пластины – до ø200мм; стеклянные подложки – 200мм х 200мм; прочие
  • Процессные камеры: до 3
  • Модули загрузки-разгрузки: 1 – ручная кассетная загрузка
  • Транспортировочная система: 4-сторонний транспортировочный модуль с транспортировочным роботом-манипулятором
  • Источники распыления: различные мишени; ВЧ магнетронный источник распыления до 2,5кВт
  • Система нагрева подложки
  • Возможность одновременного напыления и осаждения с вращением подложки
  • Температура процессов: до 700°С ((Pb(Zr,Ti) O3 – (550÷600)°С; ITO – 150°С).
  • Газовая система: газовые линии с РРГ
  • Применяемые газы: Ar, O2, N2, очищенный сжатый воздух и прочие
  • Охлаждающая вода
  • Система управления: компьютерная
  • Вакуумная система
  • Электроэнергия: 200В, 3ф, 50/60Гц

к списку

Scroll Up