ULVAC SME-200 cluster (PVD)

  • Автоматическая кластерная установка физического осаждения из газовой фазы для крупносерийного производства приборов на поверхностных акустических волнах, МЭМС, и т.д.
  • Назначение: низкотемпературное осаждение полупроводниковых соединений, например: свинец-цирконий-титан (Pb(Zr,Ti) O3); напыление электродов затворов, конденсаторов, резисторов, пьезоэлектрических слоев
  • Пластины: кремниевые, ø200мм
  • Процессные камеры: до 7 (камеры напыления, в том числе магнетронного ВЧ и магнетронного постоянного тока, камеры быстрого термического отжига)
  • Кассетная загрузка
  • Модули загрузки-разгрузки: 1
  • Транспортировочная система: 8-ти сторонний транспортировочный модуль с вакуумным транспортировочным роботом с двойным захватывающим устройством и возможностью ручной загрузки
  • Источники распыления: катод до 12”
  • Магнетронный источник питания постоянного тока; магнетронный ВЧ-источник
  • Рабочая температура процессов получения пьезоэлектрических слоев: до 500°С.
  • Газовая система: газовые линии с РРГ
  • Применяемые газы: Ar, O2, N2 и прочие с давлением (0,05÷0,1)Мпа
  • Очищенный сжатый воздух: (0,55÷0,75)Мпа
  • Охлаждающая вода: давление – (0,2÷0,3)Мпа, температура – (20÷25)°C
  • Чилер
  • Система управления: компьютерная
  • Вакуумная система: крионасос, роторный насос, безмасляные форвакуумные насосы
  • Электроэнергия: 200В, 3ф, 50/60Гц

к списку

Scroll Up