ULVAC ENTRON-EX W-200S / W-200T6   200мм (PVD)

  • Автоматическая многокамерная установка физического осаждения слоев из газовой фазы (напыления) в серийном производстве.
  • Базируется на нескольких платформах: S-type(Single core type); T-type(Tandem type) – 2 варианта
  • Назначение: напыление слоев TiO2, Ni, TiN, Co, Ta, Cu и прочих
  • Пластины: ø200мм
  • Процессные камеры: до 3 для S-type, до 6 для T-type (камеры напыления TiO2, Ni, TiN, Co, Ta, Cu и т.д.; камера сухой химической предочистки; камера отжига (дегазации) после сухой химической предочистки; камера отжига (дегазации) после PVD)
  • Загрузочные кассетные порты: до 4 (SMIF); фронтальная открытая кассетная буферная станция; роботизированная система загрузки
  • Модули загрузки-разгрузки: 2 (с вакуумным транспортировочным роботом с двойным захватывающим устройством, покрытым Al2O3)
  • Система нагрева пластин
  • Источник распыления: вращающийся магнетронный катод 12″ (мишени Ni, TiN, Co и прочие) типов Normal,  LTS,  MCS,  SIS, прочие;
  • Магнетронный источник питания постоянного тока
  • ВЧ-источник для напыления и травления (ICP)
  • Газовая система: газовые линии с РРГ
  • Применяемые газы: Ar, N2, O2, H2, очищенный сжатый воздух и прочие
  • Охлаждающая вода: давление – (0,5÷1,0)МПа, температура – (20÷25)°C
  • Система управления: компьютерная
  • Вакуумная система: турбомолекулярный насос, крионасос, безмасляные форвакуумные насосы
  • Газовый скруббер
  • Гелиевый криокомпрессор
  • Чиллер
  • Электроэнергия: 200В, 3ф, 50/60Гц, до 450А
  • Размеры: S-type с блоками – 4,353 х 3,415 х 3,8 м; T-type с блоками – 4,353 х 5,586 х 3,8 м; насосы и стойка энергопитания – 4,87 х 5,5 х 2,2 м

к списку

Scroll Up