ULVAC Ei-5 (EB/RH)

  • Автоматическая установка группового осаждения металлов и оксидов на подложки методом высоковакуумного испарения для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение: осаждение слоев металлов и оксидов; пленок оксидов индия и олова (ITO) для солнечных элементов, интегральных схем, МЭМС, светодиодов, силовых приборов,  биполярных транзисторов с изолированным затвором и других электронных устройств
  • Подложки: круглые и прямоугольные от 2” до 6” (до 8” в отдельных случаях) из кремния, многокомпонентных соединений (GaAs, GaN и прочих), стекла, сапфира и керамики
  • Держатели подложек: планетарные, спутниковые и прочие
  • Процессные камеры: 1
  • Виды испарения: электронным лучом (EB), резистивным (ламповым) нагревом (RH), EB + RH и прочие
  • Электронные пушки: (для металлов) – EGL-35M, EGN-406M с генератором HPS-1000F (10кВ) и прочие; для оксидов – EGO-40M
  • Система нагрева подложки: до 9 кВт, до 450°С
  • Система вращения подложек
  • Система контроля толщины пленки
  • Газовая система: газовые линии с РРГ
  • Применяемые газы: Ar, N2, O2 с давлением 0,05Мпа (N2 – до 0,5Мпа)
  • Очищенный сжатый воздух: (0,4÷0,7)МПа
  • Охлаждающая вода: электронная пушка – давление (0,35÷0,7)Мпа, температура (20÷25)°C; остальные блоки – давление (0,2÷0,3)Мпа, температура (20÷28)°C
  • Система управления: компьютерная, с сенсорным ЖК-монитором. Содержит функции рецептов, регистрации данных, помощи в техническом обслуживании и прочие
  • Вакуумная система: крионасос, безмасляные форвакуумные насосы
  • Криокомпрессор
  • Электроэнергия: 200В, 3ф, 50/60Гц, 50 кВА
  • Размеры: основного блока – 1,26 х 1,7 х 1,95 м

к списку

Scroll Up