ULVAC CS-L 150мм / 200мм (PVD)

  • Компактная установка физического осаждения из газовой фазы (напыления) для НИОКР
  • Назначение: осаждение легированных алюминием тонких пленок ZnO (AZO), легированных галлием тонких пленок ZnO (GZO) для солнечных элементов и оптоэлектронных устройств; пленок оксидов и металлов для МЭМС и других применений
  • Подложки: ø150мм (опционно – ø200мм) – кремниевые, кварцевые и т.д.
  • Процессные камеры: 1
  • Загрузка: кассетная, атмосферная
  • Транспортировочная система: атмосферный манипулятор
  • Источники распыления: 3” магнетронные катоды – до 3-х; мощность источника постоянного тока – 0,5 кВт; ВЧ-источник мощностью 0,3 кВт
  • Система нагрева: до 300°С
  • Возможность напыления с вращением подложки
  • Газовая система: 3 газовые линии с РРГ
  • Применяемые газы: Ar, N2, O2
  • Очищенный сжатый воздух
  • Охлаждающая вода
  • Система управления: компьютерная, с сенсорным монитором
  • Вакуумная система: турбомолекулярный и форвакуумный насосы
  • Опционно: сухой форвакуумный насос, электрод под подложку, прочие

к списку

Scroll Up