ULVAC CS-200 (PVD)

  • Автоматическая установка физического осаждения из газовой фазы (напыления) для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение: осаждение пьезоэлектрических слоев, например: платина-цирконий-титан; пленок оксидов индия и олова (ITO), в том числе легированных, для солнечных элементов; металлов (Ni, Au, Pt, Ru); углерода и других
  • Подложки: до ø300мм
  • Процессные камеры: 1
  • Вакуумируемый шлюз загрузки-разгрузки с загрузочным лотком ø320мм
  • Транспортировочная система: пневматический робот-манипулятор
  • Источники распыления: 4” магнетронные катоды – до 4-х комплектов для различных материалов (вариант – 12″ катод); возможность совместного распыления постоянным током, пульсирующим постоянным током, мощность источника – 2 кВт
  • Напыление может производиться как на верхнюю, так и на нижнюю часть подложки
  • ВЧ-источник мощностью 1 кВт для предварительной очистки в процессной камере и напыления
  • Предельное давление в процессной камере: 1.0×10-4Па или меньше
  • Система нагрева подложки
  • Возможность напыления с вращением подложки
  • Газовая система: газовые линии с РРГ
  • Применяемые газы: Ar, N2, O2 с давлением 0,05Мпа
  • Очищенный сжатый воздух: (0,6÷0,7)МПа
  • Охлаждающая вода: давление – 0,2Мпа, температура – (20÷28)°C, расход – 27л/мин
  • Система управления: компьютерная, с сенсорным монитором
  • Вакуумная система: турбомолекулярный и роторный насосы
  • Электроэнергия: 200В, 3ф, 50/60Гц, 30 кВА
  • Опционно: 3” катод, система нагрева подложки до 600 ̊C, криогенный насос, сухой насос, кассета на 5 слотов, система управления GPCS-2700 (ПК + ПЛК), система напыления под углом, прочие

к списку

Scroll Up