Tokyo Electron TEL NT333 (ALD/PEALD)

  • Автоматическая двухкамерная  установка термического / плазменно-активированного атомно-слоевого осаждения с  шлюзовой загрузкой для массового производства
  • Производительность: более 100 пл/час
  • Рабочие камеры: 2
  • Назначение: осаждение слоев диэлектриков (SiO2, Si3N4), а также материалов с высокой диэлектрической проницаемостью (High-k) и прочих
  • Загрузка: через 4 вакуумные загрузочные шлюза; до 6 пластин на камеру / до 12 пластин на установку
  • Пластины: кремниевые, кремний на изоляторе, ø300мм
  • Температура: до 760°С; устойчивое осаждение при (100÷350)°С
  • Применяемые газы: C8H18, TiCl4, O2, Ar, N2 сжатый воздух и прочие
  • Газовые линии с РРГ
  • Высокопроизводительная вакуумная система
  • Система управления: компьютерная

к списку

Scroll Up