Tokyo Electron TEL ALPHA-8SE™(ALD/LPCVD/Ox)

  • Автоматическая установка группового термического атомно-слоевого осаждения / химического осаждения из газовой фазы при пониженном давлении / оксидирования / низкотемпературного нитридирования / отжига, с  шлюзовой загрузкой для серийного производства
  • Рабочая кварцевая камера
  • Назначение: атомно-слоевое осаждение слоев High-k материалов (например, AlOx / HfOx);  LPCVD кремния (поли-Si, a-Si, SiO2, Si3N4); оксидирование радикалами при пониженном давлении; отжиг
  • Загрузка: в кассетах через 2 загрузочных шлюза с продувкой азотом; загрузочная вилка из Al2O3 с покрытием полиэфирэфиркетоном (PEEK)
  • Роботизированное устройство перемещения пластин
  • Вместимость системы загрузки: до 21 кассеты
  • Контроль среды зоны загрузки для снижения содержания O2 и микрочастиц
  • Пластины: кремниевые, ø100мм, ø150мм, ø200мм
  • Загрузка: до 150 пластин
  • Рабочие лодочки из кварца или карбида кремния
  • Температура процессов: до 1250°С.
  • Для процессов ALD – низкотемпературный 5-ти зонный нагреватель (150÷600)°С с температурным контроллером; рабочая температура –  300°С
  • Применяемые газы: для процессов ALD – CLF3, O3, Ar, N2, сжатый воздух; кроме этого для остальных процессов –  SiH4, PH3/N2, N2O, O2, SiH2CL2,  и прочие
  • Газовые линии с РРГ
  • Системы обеспечения жидкими химреагентами: для процессов ALD –TMA bubbler, Hf bubbler и прочие; кроме этого для остальных процессов – TEOS bubbler и прочие; системы доставки с обогревом
  • Система генерации и доставки озона
  • Система очистки рабочей камеры
  • Скруббер
  • Требуется вытяжная система, оборотная охлаждающая вода
  • Высокопроизводительная вакуумная система с безмасляными
  • Система управления: компьютерная
  • Электроэнергия: 480В, 3ф; 120В, 1ф; 60Гц либо 208В, 3ф, 50/60Гц; 208 В, 1ф, 50/60 Гц

к списку

Scroll Up