SENTECH SILAYO (PEALD)

  • Автоматическая установка плазмоактивированного атомно-слоевого осаждения для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение: нанесение конформных и однородных слоев Al2O3, SiO2, TiO2, HfO2, TaO2, ZrO, Nb2O5 и пр. для изготовления оптических фильтров и создания антиотражающих покрытий на больших объемных объектах и на партиях небольших подложек
  • Вакуумируемая загрузочная камера.
  • Подложки: до ø330мм (в т.ч. ø2”, ø3”, ø4”, ø6”), толщина подложки до 100мм
  • Рабочая камера: из алюминиевого сплава
  • Температура стенок рабочей камеры: до 150°C   
  • Источник ICP с плоской тройной спиральной антенной (PTSA) для обеспечения однородной плазмы
  • ВЧ-смещение напряжения на подложке
  • Температура подложки: до 400°C   
  • Газовая система: 3 газовые линии с РРГ
  • Применяемые газы: O2, Ar, N2 и прочие
  • Подача прекурсоров: 4 линии
  • Применяемые прекурсоры: ТМА, TDMAT, BDEAS,  Н2О и прочие
  • Вакуумная система: безмасляный форвакуумный насос
  • Система управления: компьютерная
  • Электроэнергия: 400В, 3ф, 50Гц
  • Очищенный сжатый воздух
  • Вытяжная вентиляция
  • Опционно: турбомолекулярный насос; высокоскоростной эллипсометр; дополнительные газовые линии;  дополнительные линии подачи прекурсоров и пр.

к списку

Scroll Up