SAMCO AD-230LP (PEALD)

  • Установка  плазмо-активированного атомно-слоевого осаждения тонких пленок для НИОКР и производства
  • Назначение: осаждение нитридов AlN, SiN, низкотемпературное осаждение оксидов AlOx и SiO2; осаждение подзатворных диэлектриков; осаждение пассивирующих слоев для полупроводников, органических электролюминесцентных материалов; создание отражающей поверхности полупроводниковых лазеров; формирование пленок на трехмерных структурах (МЭМС); нанесение пленок на графен; нанесение пассивирующих пленок углеродных нанотрубок
  • Загрузочная шлюзовая камера
  • Система емкостно-связанной плазмы (CCP)
  • Газовые линии с РРГ: O2, O3 (после озонатора), N2 и т.д.
  • Прекурсоры: ТМА, H2O и т.д.
  • Сжатый очищенный воздух
  • Вакуумная система
  • Система управления компьютерная

к списку

Scroll Up