Oxford Instruments OpAL (ALD/RP-ALD)

  • Компактная установка термического атомно-слоевого осаждения и опционно атомно-слоевого осаждения с удаленным источником плазмы для НИОКР
  • Назначение: осаждение сверхтонких и однородных слоев  Al2O3, AlN, TiN, TiO2, HfO2, ZnO, Ta2O5, TaN, GaN, SiO2, Si3N4, Pt, Ru, Au, Cu, W и т. д. для наноэлектроники, high-k подзатворных оксидов, безпористого пассивирования для OLED и полимеров, пассивация солнечных элементов из кристаллического кремния, высокооднородных покрытий для микроструйных устройств и МЭМС и т.д.
  • Загрузка-выгрузка подложек: ручная прямая
  • Подложки: до ø 200 мм
  • Температура электрода-подложкодержателя: (25÷400)°С
  • Системы нагрева и водяного охлаждения
  • Линии подачи газа с РРГ: встроенные – до 2, внешний газовый шкаф – до 8
  • Применяемые газы: NH3, O2, H2, N2, очищенный сжатый воздух и прочие
  • Температура прогрева емкости с прекурсором: до 200°С
  • Количество источников жидких и твердых прекурсоров: до 3 размером до 50, 100 или 200г (зависит от вида использования)
  • Возможность подачи воды и озона
  • Высокоэффективная вакуумная система с роторным насосом
  • Электроэнергия: 400В, 3ф, 25А, 50/60Гц либо 208В, 3ф, 32А, 50/60Гц
  • Габариты: основной блок – 1200 x 790 x 1450 мм; газовый шкаф на 8 линий – 650 x 220 x 1130 мм
  • Вес: основной блок – 250 кг, газовый шкаф на 8 – 50 кг, вакуумный насос – 98 кг
  • Опционно: ICP-источник плазмы до 300Вт, спектроскопический эллисометр, масс-спектрометр, оптический эмиссионный спектрометр, перчаточная камера

к списку

Scroll Up