FHR ALD 300 (ALD)

  • Двухреакторная установка атомно-слоевого осаждения для промышленного производства
  • Применяется для осаждения тонкопленочных оксидов (HfO₂, Al₂O₃, La₂O₃, SiO₂ и прочих), нитридов (TiN, TaN, SiNx и прочих), металлов (W, Ta, Cu, Ru и прочих)
  • Подложки ø300 мм
  • Система автоматической загрузки с азотным охлаждением и с 2 портами для стандартных кассет на 25 пластин
  • Алюминиевая нагреваемая до 80°C камера перемещения с четырьмя портами
  • Количество процессных камер: 2
  • Процессная камера №1: камера из алюминия, нагреваемая до 200°C, с обдувом аргоном зазоров; узел распыления газов с двумя газовыми каналами; поперечные газовые потоки, два газовых канала; нагрев подложки до 600°C (при поперечных потоках – до 400°C ); 4 газовые линии прекурсоров (нагреваемые до 200/ 230°C), 1 резервный канал; 4 барботера (1 – охлаждаемый, 3 – нагреваемые); газовые линии: 5 – основные, 4 – резервные;  жидкостная промывка
  • Процессная камера №2:  камера из алюминия, нагреваемая до 200°C; узел распыления газов с двумя газовыми каналами; поперечные газовые потоки, два газовых канала; вынесенный источник плазмы; нагрев подложки до 600°C (при поперечных потоках – до 400°C ); 5 газовых линий прекурсоров (нагреваемые до 200/ 230°C); 5 барботеров (1 – охлаждаемый, 4 – нагреваемые); газовые линии: 7 – основные, 4 – резервные

к списку

Scroll Up