FHR ALD 300 НИОКР (ALD)

  • Двухреакторная установка атомно-слоевого осаждения для НИОКР
  • Назначение: для осаждения тонкопленочных оксидов (HfO₂, Al₂O₃, La₂O₃, SiO₂ и прочих), нитридов (TiN, TaN, SiNx и прочих), металлов (W, Ta, Cu, Ru и прочих)
  • Подложки: пластины ø150, 200, 300 мм
  • Ручная загрузка по одной пластине, зона загрузки – в чистой комнате
  • Загрузочная камера с азотным охлаждением и одним шлюзом загрузки
  • Алюминиевая нагреваемая до 80°C камера перемещения с четырьмя портами
  • Количество процессных камер: 2
  • Процессная камера №1: камера из алюминия, нагреваемая до 200°C, с обдувом аргоном зазоров; узел распыления газов с двумя газовыми каналами; расположенный по центру узел подвода газа; нагрев подложки до 600°C; порт для проведения эллипсометрии; 4 газовые линии прекурсоров (нагреваемые до 200/ 230°C); 4 барботера (1 – охлаждаемый, 3 – нагреваемые); газовые линии: 7 – основные, 2 – резервные
  • Процессная камера №2:  корпус камеры из алюминия, нагреваемый до 150°C, внутренняя камера из титана, нагреваемая до 200°C; поперечные газовые потоки, два газовых канала; ламповый нагреватель ø100 мм обеспечивает нагрев до 1000°C; нагрев подложки до 500°C; 4 газовые линии прекурсоров (нагреваемые до 200/ 230°C), 2 резервных канала; 4 барботера (2 – охлаждаемые, 2 – нагреваемые); газовые линии: 2 – основные, 2 – резервные

к списку

Scroll Up