FHR ALD 150 (PEALD)

  • Установка плазмостимулированного атомно-слоевого осаждения для НИОКР и пилотного производства 
  • Назначение: для осаждения тонкопленочных оксидов (HfO₂, Al₂O₃, La₂O₃, SiO₂ и прочих), нитридов (TiN, TaN, SiNx и прочих), металлов (W, Ta, Cu, Ru и прочих)
  • Подложки: пластины ø150 мм; объемные подложки: 20 мм, до 100 слоев
  • Загрузка по1 подложке в боксе с ламинарным потоком
  • Совмещенная камера для ручной загрузки-разгрузки и перемещения
  • Ненагреваемая камера перемещения из алюминия
  • Технологическая камера: из алюминия, нагреваемая до 200°C, с обдувом зазоров аргоном
  • Нагрев подложки до 600°C
  • 3 газовые линии исходных реагентов (нагреваемые до 200/ 230°C), 1 резервный канал
  • 3 барботера (1 – охлаждаемый, 2 – нагреваемые)
  • Газовые линии: 6 – основные, 1 – резервная
  • Узел распыления газов с двумя газовыми каналами
  • Устройство вынесенной плазмы
  • Потенциал на подложке: высокочастотный, постоянного тока, заземленный, плавающий

к списку

Scroll Up