FHR.Star.300 (PVD/ALD)

  • Многоцелевая кластерная установка для создания в условиях вакуума тонкопленочных функциональных покрытий (проводящих, изолирующих, барьерных, адгезионных, оптических) на пластинах (подложках) в полупроводниковой промышленности, производстве МЭМС, солнечных элементов и датчиков, микроэлектронике, оптоэлектронике, оптике для промышленного производства
  • Назначение: нанесение высококачественных оптических пленок, функциональных покрытий для МЭМС, датчиков, силовых приборов на карбиде кремния
  • Камеры кассетной загрузки-разгрузки: 2
  • Транспортировочная камера свосемью портами и вакуумным манипулятором-перегрузчиком
  • Процессные модули: до 6 – магнетронного напыления (DC или RF способ), термического или электронно-лучевого испарения, атомно-слоевого осаждения (ALD), быстрого лампового отжига (FLA), быстрых термических процессов (RTP), плазмоактивированного химического осаждения из газовой фазы (PECVD), плазмостимулированного (PE) или реактивно-ионного (RIE) травления – конфигурация по заданию заказчика
  • Размер подложек: ø100 мм, ø150 мм, ø200 мм
  • Управление температурой подложки и подложкодержателя
  • Возможность обработки тяжелых подложек (до 15 кг)
  • Для напыления используются источники постоянного тока, пульсирующего постоянного тока и плоскими катодами с мишенями диаметром до 300 мм
  • Конструкция обеспечивает быструю и простую замену мишени
  • Пригодна для установки в чистой комнате или с расположением зоны загрузки в чистой комнате
  • Источники напыления: FHR.SC300-DC или другой модели
  • Источники травления: FHR.SC200-RF или другой модели
  • Предельное остаточное давление: 5 x 10-7 мбар
  • Управление процессом полностью автоматизировано
  • Энергоносители: электроэнергия, охлаждающая вода
  • Газовые линии: аргон (Ar), азот (N2), кислород (О2)
  • Сжатый очищенный воздух
  • Вакуумная система
  • Габариты: 3220 х 4200 х 2080 мм
  • Вес: 6321 кг

к списку

Scroll Up