FHR.Star.220 (PVD)

  • Универсальная кластерная установка для создания в условиях вакуума толстых и тонких пленочных покрытий для НИОКР и серийного производства.
  • Назначение: нанесение многослойных оптических пленок, функциональных покрытий для МЭМС и датчиков
  • Реализуемые процессы: реактивное и инертное магнетронное распыление (ВЧ-режим); предварительная обработка (например, плазменное травление)
  • Состав: загрузочный шлюз, транспортировочная камера с вакуумным манипулятором, процессная камера
  • Загрузка: кассетная
  • Подложки: до ø100 мм
  • Для напыления используются мишени ø220 мм
  • В процессной камере: 5 отсеков с ВЧ- (постоянного тока) плоскими катодами
  • Источники напыления: 5xFHR.SC220-RF
  • Источник травления: 1хFHR.IEC150-RF или другого типа
  • Возможность использования диодного напыления во избежание термической нагрузки на подложку
  • Режимы работы: статический и динамический
  • Предельное остаточное давление: 5 x 10-7 мбар
  • Пригодна для установки в чистой комнате или с расположением зоны загрузки в чистой комнате
  • Управление процессом полностью автоматизировано
  • Энергоносители: электроэнергия, охлаждающая вода
  • Вращающийся охлаждаемый подложкодержатель, вмещающий до 6 подложек ø100 мм
  • Газовые линии: аргон (Ar), азот (N2), кислород (О2)
  • Сжатый очищенный воздух
  • Вакуумная система
  • Габариты: 3300 х 1300 х 2500 мм
  • Вес: 3000 кг
  • Опции: загрузочный шлюз по заданию заказчика и прочие

к списку

Scroll Up