FHR.Star.150-Co (PVD)

  • Кластерная установка для создания в условиях вакуума тонкопленочных покрытий для НИОКР и пилотного производства.
  • Назначение: нанесение многослойных пленок для МЭМС и датчиков, функциональных покрытий для микро- и оптоэлектроники, силовых приборов
  • Состав: загрузочный шлюз, транспортировочная камера, 2 процессные камеры (для высоко- и низкотемпературных процессов)
  • Подложки: до ø200 мм и толщиной (0,8÷5,0) мм
  • Температура подложкодержателя: до 400°C
  • Для напыления используются плоские катоды ø150 мм с пневмоуправляемыми заслонками
  • В каждой процессной камере: до 3-х источников распыления с возможностью перемещения
  • Источники высокотемпературного напыления: 1xFHR.SC150-DC и 1xFHR.SC150-RF
  • Источники низкотемпературного напыления: 2xFHR.SC150-DC
  • Предельное остаточное давление: 5 x 10-7 мбар
  • Управление процессом полностью автоматизировано
  • Энергоносители: электроэнергия, охлаждающая вода
  • Вращающийся подложкодержатель ø200 мм
  • Регулируемое расстояние от мишени до подложки
  • Газовые линии: аргон (Ar), азот (N2), кислород (О2)
  • Сжатый очищенный воздух
  • Вакуумная система
  • Габариты: 4000 х 3000 х 2500 мм
  • Вес: 2700 кг
  • Опции: по 1 дополнительному источнику напыления в каждую камеру, предварительная обработка методом обратного распыления, система униполярнго импульсного напыления, загрузочный шлюз по заданию заказчика и прочие

к списку

Scroll Up