FHR.Star.100-TetraCo (PVD)

  • Кластерная установка для создания в условиях вакуума тонкопленочных покрытий для НИОКР и пилотного производства.
  • Назначение: нанесение многослойных пленок для МЭМС и датчиков, функциональных покрытий для микро- и оптоэлектроники, силовых приборов
  • Реализуемые процессы: реактивное и инертное магнетронное распыление (режим постоянного тока); предварительная обработка (например, плазменное травление); соосаждение на вращающийся держатель подложки
  • Состав: загрузочный шлюз, транспортировочная камера, процессная камера
  • Подложки: до ø150 мм
  • Температурный контроль подложки и держателя
  • Для напыления используются плоские катоды ø100 мм с пневмоуправляемыми заслонками
  • Пригодна для установки в чистой комнате или с расположением зоны загрузки в чистой комнате
  • Источники напыления: 3xFHR.SC100-DC
  • Источник травления: 1хFHR.IEC150-RF
  • Предельное остаточное давление: 5 x 10-7 мбар
  • Управление процессом полностью автоматизировано
  • Энергоносители: электроэнергия, охлаждающая вода
  • Вращающийся подложкодержатель ø220 мм
  • Регулируемое расстояние от мишени до подложки
  • Газовые линии: аргон (Ar), азот (N2), кислород (О2)
  • Сжатый очищенный воздух
  • Вакуумная система
  • Габариты: 3500 х 1650 х 2600 мм
  • Вес: 2000 кг
  • Опции: системы среднечастотного и ВЧ-напыления, подложкодержатель с системой нагрева до 500°C, загрузочный шлюз по заданию заказчика, кассеты для пластин  

к списку

Scroll Up