FHR.Micro.200-PVD (PVD)

  • Лабораторная установка магнетронного напыления тонких пленок в вакууме для НИОКР и обучения
  • Подложки: до ø200 мм толщиной до 30мм (более 30 мм  – с использованием проставочных колец)
  • Ручная загрузка-выгрузка подложек
  • Модификации установки:

– DC модель: осаждение электропроводящих слоев (Al, нержавеющая сталь, Cr, Cu, Au, Ag и прочих);

– HF модель: осаждение электропроводящих или неэлектропроводящих слоев (Al2O3, SiO2, ZrxOy, Si3N4 и прочих)

  • Источники напыления: FHR.SC200-DC или FHR.SC200-HF (мишень ø200 мм)
  • Скорость осаждения (при мощности источника 1,5 кВт): Al – до 250 нм/мин, Cr – до 200 нм/мин, Cu – до 350 нм/мин
  • Время вакуумирования до 10-5 мбар: < 5 мин
  • Предельное остаточное давление (через 1 час вакуумирования): 5 x 10-6 мбар
  • Управление процессом программируемым логическим контроллером
  • Энергоносители: электроэнергия, охлаждающая вода, сжатый воздух
  • Процессные газы: Ar, N2
  • Наличие технологических блокировок для обеспечения безопасности процесса
  • Габариты: 750 х 600 х 1400 мм
  • Вес : 200 кг

к списку

Scroll Up