FHR.Micro.160-IBE-RIE (IBE)

  • Лабораторная установка ионно-лучевого и реактивно-ионного травления
  • Назначение: травление Cu, Si, Ga и прочих материалов
  • Возможность вращения и наклона подложкодержателя с подложками ø4”
  • Ручная загрузка-выгрузка подложек
  • Ручное управление
  • Процессная камера из нержавеющей стали
  • Источники  ионно-лучевого и реактивно-ионного травления
  • Электрод для травления ø250 мм
  • Процессные газы: Ar, N2, O2, F2 и прочие
  • Опционно: загрузочный шлюз с автоматической транспортировкой подложек

к списку

Scroll Up