FHR.Micro.150-DuoPVD (PVD)

  • Лабораторная установка магнетронного напыления с двумя источниками
  • Назначение: динамический процесс напыления при комнатной температуре проводящих материалов – Cr, Cu, Au, Ag и прочих металлов с использованием DC-источника; напыление непроводящих материалов –Al2O3, SiO2 при опционном использовании RF-источника
  • Процессная камера из алюминия
  • Вращающийся подложкодержатель для подложек размером до ø200 мм
  • Источники напыления: DC-источник и RF-источник (опционно)
  • Ручная загрузка-выгрузка подложек
  • Ручное управление
  • 2 мишени ø150 мм
  • Опционно: система нагрева подложкодержателя

к списку

Scroll Up