Kokusai Electric Lambda 300/300N

  • Автоматическая высокопроизводительная установка для вскрытия фоторезиста / озоления (удаления сухого пленочного резиста) при однопластинной обработке в промышленном производстве
  • Назначение: удаления сухого пленочного резиста – нормальное озоление, высокодозовое озоление, фотостимулированное травление
  • Пластины: ø12”
  • Высокоскоростная система транспортировки пластин
  • Количество рабочих камер: 2
  • Материал камер: кварц
  • Материал подложкодержателя: Al+Al2O3
  • Максимальная температура подложкодержателя: 250°С
  • Высокотемпературный нагреватель с широким диапазоном регулирования температуры и высокой однородностью температуры
  • Плазменный ВЧ источник «Herical Resonator» для неповреждающих высокоскоростных плазменных процессов: 27.12MГц, до 4500Вт
  • Газовая система: газовые линии с РРГ
  • Применяемые газы:  N2, O2, 3%H2/N2 и прочие. Давление – 3 бар. Расход газов – (0,6÷4800) л/ч
  • Сухой очищенных сжатый воздух: давление – 5 бар, расход – 130 л/мин
  • Охлаждающая вода: давление – 2,5 бар, расход – 10 л/мин
  • Чиллер
  • Вес: 1850 кг

к списку

Scroll Up