• Печь для приготовления алюмонитридной и бериллиевой керамики 
• Объём рабочей камеры: 21 – 170 л
• Изоляционный материал: керамика
• Источник нагрева: Резистивный  MoSiO₂/W

• Вакуумный пресс для приготовления электронной и неоксидной керамики 
• Источник нагрева: Резистивный  MoSiO₂
• Максимальная температура рабочей зоны: 1330 °С
• Размер рабочей камеры (ØхH): 760х760 мм

• Высокотемпературный вакуумный пресс для приготовления корундовой, нитридной и сиалоновой керамики
• Источник нагрева:   Резистивный (опция — индукционный)  MoSiO₂ / W / Графит
• Максимальная температура рабочей зоны: 1550 / 2000 / 2500 °С
• Размер рабочей камеры:

— (ØхH): 305х305 до 916х1222 мм

— (WxHxL): 305х305х305 до 610х610х1222 мм

• Печь химического газофазного осаждения
• Источник нагрева: Резистивный  (опция — индукционный) W / Графит
• Изоляционный материал: графит
• Максимальная температура рабочей зоны:  2200 / 2900 °С: 

• Печь вытяжки оптоволокна
• Источник нагрева: Резистивный / Графит
• Изоляционный материал: графит
• Максимальная температура рабочей зоны:  2300°С