VERSALINE RIE

  • Установка реактивно-ионного травления плазмой от НИОКР до крупносерийного производства. Возможна модернизация для процессов травления индуктивно-связанной плазмой
  • Подложки размером: 8х2”, 4х3”, одиночные от 3” до 8”
  • Варианты загрузки: прямая ручная загрузка (одиночные пластины или партия); загрузка через шлюз (одиночные пластины или партия); кассетная загрузка пластин или образцов
  • Библиотека стандартных технологических процессов травления
  • 200-мм подложкодержатель (электрод), цифровые регуляторы массового расхода,  до 8 газовых каналов (4 – стандартно)
  • Температура термостабилизируемого подложкодержателя (электрода) -40÷+180°C
  • Источник RIE 600Вт 13,56 МГц (опционно до 40 МГц), комплексное управление оконечными устройствами, протокол внештатных ситуаций, различные уровни доступа пользователей, управление процессом в реальном времени с визуальным отображением данных
  • Форвакуумный безмасляный насос 80 м3/ч, турбомолекулярный насос 1200 л/с, обеспечение вакуумом уровня 1,0х10-6 торр
  • Электропитание: 380В, 50Гц, 3ф; 200÷230В, 50/60Гц
  • Габариты: 207,8х188,7х64,0см – вариант с автоматическим шлюзом

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.