Ultratech Star 100

  • Установка (Степпер) проекционной литографии для нанотехнологий и полупроводниковых соединений
  • Экономичное литографическое решение для производства недорогих силовых ИС, линейных чипов и прикладных ИС, МЭМС
  • Универсальный инструмент для приложений, заменяющих устаревшие сканеры и контактные принтеры
  • Диаметр обрабатываемых пластин (перенастраиваемый) от 75 мм до 200 мм
  • Объектив 0.8 мкм
  • Размер поля освещения 39 x 18 мм
  • Рабочее поле 30 x 18 мм
  • Система машинного зрения (MVS) для выравнивания и распознавания образов
  • Роботизированное устройство перемещения пластин

к списку