Trion Technology Orion III (PECVD)

  • Компактная автоматическая установка плазмоактивированного химического осаждения из газовой фазы  для НИОКР и опытного производства
  • Назначение: осаждение SiOх, SiNх, SiOxNу, a-Si без применения самовоспламеняющихся газов
  • Пластины: от ø2″ до ø300мм, части пластин.Возможна групповая загрузка пластин, либо частей пластин
  • Источник плазмы: 300/900Вт, 300/(360÷450)кГц (в зависимости от варианта поставки)
  • Электроды из анодированного алюминия: нижний электрод – ø200мм либо ø300мм (зависит от варианта установки)
  • Температура электрода-подложкодержателя: до 400°С
  • Газовая система: до 8 газовых линий с РРГ, продувочный азот
  • Применяемые газы: смеси с SiH4 (<20%), NH3, TEOS, диэтилсилан, N2O, N2, O2, CF4, и прочие
  • Подача газов в реактор: через кольцевой распределитель либо через душевой распылитель
  • Вакуумная система: турбомолекулярный (вариант) и форвакуумные насосы
  • Система управления: компьютерная, с сенсорным экраном; наличие библиотеки процессов; автоматическая система управления давлением
  • Опционно: система контроля напряженности пленок – дополнительный источник 600 Вт, 13,56МГц; различные варианты насосных систем; оперативное управление температурой подложкодержателя в диапазоне (50÷400)°С с помощью резистивного нагревателя с ИК-термопарой

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.