Trion Technology Gemini (ICP/MW/SST)

  • Автоматическая многокамерная высокопроизводительная установка плазмохимического низкотемпературного щадящего удаления фоторезиста индуктивно-связанной плазмой / микроволновой плазмой для массового производства
  • Назначение: производство МЭМС, удаление фоторезиста с полупроводниковых соединений, многоярусная сборка
  • Пластины: ø200мм или ø300мм. Оперативное управление температурой пластины (нагрев и охлаждение)
  • Источники плазмы: ICP; MW (Microwave)+ RF; SST-Lightning microwave
  • Газовая система: газовые линии с РРГ, продувочный азот
  • Применяемые газы: O2, Ar, CHF3, CF4, SF6, N2 и прочие; давление – (1÷3) бар
  • Скорость травления до 6 мкм/мин
  • Вакуумная система: коррозионностойкие безмасляные форвакуумные насосы
  • Система управления: компьютерная
  • Электроэнергия: 220/415В, 3ф, 50Гц
  • Очищенный сжатый воздух: 5,5 кг/см2
  • Азот: 5,5 кг/см2
  • Охлаждающая вода: (1÷4) кг/см2, 2,3 л/мин, <30°С
  • Вытяжная вентиляция: подключение насоса к процессной камере – NW40, к насосу – NW25
  • Габариты: реакторный блок – (1423×1418) мм, распределительный шкаф – (197x407x508) мм, насос камеры 1 – (229x458x280) мм, насос камеры 2 – (229x458x280) мм, чиллер – (544x704x803) мм, нагреватель/чиллер – (290x473x676) мм

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.