Rigaku TXRF-V450

  • Промышленные системы полного рентгеновского отражения
  • Системы рентгено флюоресцентного анализа с полным внешним отражением  для промышленного применения в производстве полупроводников. Предназначена для  быстрого определение загрязнений на пластинах при производстве полупроводников, а так же определения концентрация и химического состава элементов на поверхности
  • Эффективная инспекция в процессе определения загрязнений на различных стадиях при производстве полупроводников, например, очистки, вакуумного нанесения тонких пленок, экспонирования, травления и др.
  • Кроме применений для полупроводников, системы могут быть использованы для сложных составных (из различных элементов) полупроводниковых приборов, МЭМС, органических электролюминесцентных материалов
  • Встроенная система автоматического разложения в газовой фазе (VPD)* для подготовки пластин и концентрации загрязнений в капле для последующего рентгеновского анализа.
  •  Реализована одновременная работа: в то время как одна пластина подготавливается для анализа, вторая анализируется в рентгеновском блоке.
  • Использование подготовки VPD позволяет 100-кратно увеличить предел чувствительности системы полного рентгеновского отражения.
  • Продвинутый XYθ держатель образца и роботизированная система переноса пластин
  • Автоматическое центрирования образца на предметном столике, сверхточное определение положения пластины
  • Основные параметры:

к списку