Plasma Etch Magna(PE)

  • Промышленная плазменная установка для плазменной очистки и травления обратной стороны
  • Конфигурация электрода: карусель (8 панелей 24″ x 30″), констукция электрода позволяет проводить процесса травления без использования CF4
  • Генератор: 2000Вт, 13,56МГц с плавным регулированием мощности и системой автоматического регулирования
  • Регулировка газового потока: два РРГ (0÷200) см3/мин с детектором снижения давления процессного газа
  • Сухой вакуумный насос
  • Чиллер для охлаждения ВЧ-генератора и сухого вакуумного насоса
  • Система управления на базе компьютера с цветным сенсорным дисплеем
  • Рабочая камера: материал – алюминий 6061-T6
  • Электроэнергия: 208В, 3ф (пятипроводная), 60А
  • Сжатый воздух: давление – (80÷100) PSI, расход – 0,5 CFM (14,16 л/мин)
  • Охлаждение: Замкнутый контур водяного охлаждения
  • Габариты: 8’x6’x6’
  • Опционно: система регулирования температуры – (100÷250)ºF ; световой маячок; встроенный генератор О2; компактный скруббер на выхлоп вакуумного насоса

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.