Plasma Etch BT-1(PE/RIE)

  • Промышленная плазменная установка для плазменной очистки, плазменного травления, для реактивно-ионного травления и прочих плазменных процессов в полупроводниковом производства, микроэлектронике, при производстве солнечных элементов, печатных монтажных плат и пр.
  • Пять горизонтальных электрода (5 уровней)  — 20″ x 21″; зазор — 3″  
  • Генератор: 600Вт, 13,56МГц с плавным регулированием мощности и системой автоматического регулирования
  • Регулировка газового потока: один РРГ (0÷200) см3/мин
  • Мановакуумер диапазоном (1÷2000) мторр
  • Двухступенчатый безредукторный масляный вакуумный насос производительностью 29ф3/мин (0,82 м3/мин)
  • 3-микронный масляный фильтр
  • Система управления на базе программируемого логического контроллера с цветным сенсорным дисплеем; библиотека до 20 режимов технологических процессов
  • Рабочая камера: 25″ x 25″ х 22″, материал – алюминий 6061-T6
  • Электроэнергия: 120В/208В, 3ф (пятипроводная), 50/60Гц, 30А
  • Сжатый воздух: давление — (80÷100) PSI, расход — 0,5 CFM (14,16 л/мин)
  • Процессные газы: давление — 15 PSI
  • Габариты: 70″x36″x32″
  • Вес: установки — 1200 фунтов (544 кг); вакуумного насоса — 150 фунтов (68 кг)
  • Опционно: размер рабочей камеры и число/размер электродов по требованиям заказчика; электрод для реактивно-ионного травления; источник плазмы большей мощности; полностью автоматическая система управления, программирование многошаговых процессов, протоколирование данных/отклонений, аварийных ситуаций и многостадийных технологических маршрутов;  электростатическое экранирование;  система регулирования температуры; сухой вакуумный насос; чиллер для сухого вакуумного насоса;  масляный туманоуловитель на вытяжку; 3-микронный масляный фильтр; система автоматического контроля и поддержания вакуума;  дополнительные цифровые РРГ; световой маячок; системы продувки камеры и вакуумного насоса/осушитель воздуха/генератор продувочного газа; детектор снижения давления процессного газа; скруббер на выхлоп вакуумного насоса

к списку