AP&S – MultiStep – Установка жидкостной химической обработки

• Полностью автоматическая установка жидкостной химической обработки для полупроводникового производства, МЭМС, солнечных элементов
• Применение: очистка, вскрытие, травление, сушка; RCA, IMEC, Pre-Diffusion, Pre-Metal…
• Различные процессы травления, включая оксиды, нитриды, металлы и силициды
• Загрузка: 1 x 25 пластин 8”; 2 x 25 пластин 6”; 2 x 25 пластин 4”
• Стандартная кассета с высоким или низким профилем
• Производительность: до 300 пл/ч;
• Возможности управления процессом:

– Отслеживание партии на протяжении всего процесса

– Отслеживание параметров, включая температуру, расход, удельное сопротивление, химическое дозирование и т. д.

– Завершение работы фильтра, формирование файлов ошибок, журнала химии, журнала пользователя

– 17-дюймовый сенсорный экран

• Модульные системы выхлопа для эффективного удаления паров кислот, щелочей, рН-нейтральных соединений и растворителей
• Встроенная система безопасности
• Номинальное напряжение: 3 x 400 VAC
• Номинальная частота: 50 Гц
• Номинальный ток: 3 x 33 A
• Доступные варианты опций:

– Автоматическая передача пластин станцией загрузки

– Считыватель идентификаторов пластин

– Кассетный буфер

– Озоновая система (DI-вода или серная кислота)

– SMIF (150, 200 или 300 мм)

– Система управления сточными водами

– Локально установленные химические шкафы для разбавления, смешивания, предварительного нагрева химических растворов

– Система нагрева DI-воды

– Чистая мини-зона

– Система контроля концентрации

– POU-фильтрация DI-воды

– Система пожаротушения при работе с растворителями

– ИБП

• Графический интерфейс пользователя:

– На основе процессоров B & R и IPC Windows 17-дюймовый сенсорный экран

– Редактор рецептов

– Цифровые блок-схемы в реальном времени

– Автоматическая генерация диагностических файлов (EOR, ERR, ChemLog и т. д.)

– Многоуровневый пароль

– Дистанционное управление через интернет

• Габаритные размеры (Ш х Г х В): Переменная x 1640 x 1950 мм