AP&S – MultiStep – Установка жидкостной химической обработки
- Полностью автоматическая установка жидкостной химической обработки для полупроводникового производства, МЭМС, солнечных элементов
- Применение: очистка, вскрытие, травление, сушка; RCA, IMEC, Pre-Diffusion, Pre-Metal…
- Различные процессы травления, включая оксиды, нитриды, металлы и силициды
- Загрузка: 1 x 25 пластин 8”; 2 x 25 пластин 6”; 2 x 25 пластин 4”
- Стандартная кассета с высоким или низким профилем
- Производительность: до 300 пл/ч;
- Возможности управления процессом:
– Отслеживание партии на протяжении всего процесса
– Отслеживание параметров, включая температуру, расход, удельное сопротивление, химическое дозирование и т. д.
– Завершение работы фильтра, формирование файлов ошибок, журнала химии, журнала пользователя
– 17-дюймовый сенсорный экран
- Модульные системы выхлопа для эффективного удаления паров кислот, щелочей, рН-нейтральных соединений и растворителей
- Встроенная система безопасности
- Номинальное напряжение: 3 x 400 VAC
- Номинальная частота: 50 Гц
- Номинальный ток: 3 x 33 A
- Доступные варианты опций:
– Автоматическая передача пластин станцией загрузки
– Считыватель идентификаторов пластин
– Кассетный буфер
– Озоновая система (DI-вода или серная кислота)
– SMIF (150, 200 или 300 мм)
– Система управления сточными водами
– Локально установленные химические шкафы для разбавления, смешивания, предварительного нагрева химических растворов
– Система нагрева DI-воды
– Чистая мини-зона
– Система контроля концентрации
– POU-фильтрация DI-воды
– Система пожаротушения при работе с растворителями
– ИБП
- Графический интерфейс пользователя:
– На основе процессоров B & R и IPC Windows 17-дюймовый сенсорный экран
– Редактор рецептов
– Цифровые блок-схемы в реальном времени
– Автоматическая генерация диагностических файлов (EOR, ERR, ChemLog и т. д.)
– Многоуровневый пароль
– Дистанционное управление через интернет
- Габаритные размеры (Ш х Г х В): Переменная x 1640 x 1950 мм
