AP&S – LOTUS systems – Линия жидкостной химической обработки
- Полностью автоматизированная линия жидкостной химической обработки для больших подложек/ тонкопленочного применения (для производства солнечных элементов)
- Применение: жидкостное нанесение покрытий; жидкостные травление/ очистка;
- Производительность: 150 подложек/час;
- Размер загрузки: подложки до 1200х800 мм;
- Отличительная черта: автоматическая загрузка многокоординатным роботом;
- Опции: несущее устройство для подложек различной толщины;
- FM 4910 совместимость.
Каталоги инженерные
Каталоги технологические
- #2730 (no title)
- ACCRETECH /TOKYO SEIMITSU CO/
- ACCRETECH FP2000
- ACCRETECH SURFCOM 5000DX
- ACCRETECH SURFCOM C5
- ACCRETECH SURFCOM CREST DX/SD
- ACCRETECH SURFCOM NEX DX/SD/FX
- ACCRETECH UF190R, ACCRETECH UF200R
- ACCRETECH UF2000
- ACCRETECH UF3000EX-e
- Acetoncarussel
- Advanced Vacuum System
- AIXTRON
- AIXTRON 200 MOCVD
- AIXTRON 200 R2 MOCVD
- AIXTRON 200 RF MOCVD
- AIXTRON 200/4 MOCVD
- AIXTRON 200/4 RF-S MOCVD
- AIXTRON 2000 HT MOCVD
- AIXTRON 2400 MOCVD
- AIXTRON 2400/G2 MOCVD
- AIXTRON 2400/G3 MOCVD
- AIXTRON 2600 G3 MOCVD
- AIXTRON 2800 G4 MOCVD
- AIXTRON G5 MOCVD
- AIXTRON R6 MOCVD
- AIXTRON VP2400 HW MOCVD
- AnnealSys
- AnnealSys AS-Master
- AnnealSys AS-Micro
- AnnealSys AS-One
- AnnealSys LC100
- AnnealSys MC050
- AnnealSys MC100
- AnnealSys SprayCVD-050
- AP&S
- Apex SLR
- APPLIED Materials
- Applied Materials AMAT Centris AdvantEdge Mesa Etch (FE-ICP)
- Applied Materials AMAT Centura (5200 / Ultima Plus) HDP CVD 200mm
- Applied Materials AMAT Centura (AP) Ultima X HDP-CVD
- Applied Materials AMAT Centura 5200 (II) Etch 200mm (ICP/RIE/DCP/MW)
- Applied Materials AMAT Centura AdvantEdge Mesa / G5 Etch (FE-ICP)
- Applied Materials AMAT Producer (Producer S) PECVD 200mm
- Applied Materials AMAT Producer Etch eXT (ICP)
- Applied Materials AMAT Producer GT (Avila TSV) PECVD
- Applied Materials AMAT Producer SE (APF) PECVD 300mm
- ASM International
- ATV PEO-601
- ATV PEO-603/4
- ATV PEO-604
- ATV Technologie
- CDS Epitaxy
- Centrotherm Activator 150-5 (50)
- Centrotherm CAV 150, Centrotherm CAV 200.
- Centrotherm CLV 200
- Centrotherm CMV 200, Centrotherm 300.
- Centrotherm E 1200
- Centrotherm E 1550
- Centrotherm E 2000
- Centrotherm Epicoo 200
- Centrotherm Oxidator 150-5,Centrotherm Oxidator 150-50
- Centrotherm RTP 150
- Centrotherm Single Tube
- Centrotherm thermal solutions
- Chemical Distribution System
- Chemical Waste System
- CMS, Slurry System
- CORIAL
- Corial 200FA
- Corial 200I
- Corial 200ML
- Corial 200R
- Corial 200S
- Corial 210D
- Corial 210IL
- Corial 210RL
- Corial 300IL
- Corial 300S
- Corial 360IL
- Corial 360RL
- Corial 400L
- Corial D250
- Corial D250L
- Corial D350
- Corial D350L
- Corial D500 PECVD
- Corial PS200
- Diener electronic Atto
- Diener electronic Femto
- Diener electronic GmbH+Co.KG
- Diener electronic Pico
- Diener electronic Tetra 100 PC/PCCE
- Diener electronic Tetra 15 LF-PC
- Diener electronic Tetra 150 PC/PCCE
- Diener electronic Tetra 30 PC/PCCE
- Diener electronic Yocto III
- Diener electronic Zepto
- DNS CW-1500
- DNS FS-821L
- DNS SK-2000 BVPEU
- DNS SR-2000
- DNS SS-80BW-AR
- DNS SS-80EX
- DNS SS-80EX
- DNS SS-W60A-AR
- DNS SU-2000
- DNS WS-620C
- DNS WS-820C
- DNS WS-820L
- ELS System Technology Co., Ltd.
- ELS106FA
- ELS106FA-B
- ELS106SA
- ELS108FA
- ELS108SA
- ELS112SA
- EpiPro 5000 CVD
- EPSILON 2000 PLUS CVD
- EPSILON 3200 CVD
- EQ-PCE-3
- EQ-PCE-6
- EQ-PCE-8
- Evatec (Oerlikon Systems) CLUSTERLINE 200 II (PVD/PECVD)
- Evatec (Oerlikon Systems) CLUSTERLINE 300 II (PVD/PE)
- Evatec (Oerlikon Systems) CLUSTERLINE RAD
- Evatec AG
- Evatec HEXAGON (PVD/ICP)
- Ferrotec
- FERROTEC
- FERROTEC FT-CZ2008A
- FERROTEC FT-CZ2208AE
- FERROTEC HXH 450 N
- FERROTEC HXH 600 N
- FERROTEC HXH 800 N
- FERROTEC S1000
- FHR ALD 100
- FHR ALD 150
- FHR ALD 300
- FHR ALD 300
- FHR Anlagenbau
- FHR Anlagenbau
- FHR FLA 100
- FHR FLA 100-DL
- FHR FLA 200-A
- FHR FLA 200-A
- FHR FLA-100
- FHR FLA-100-DL
- FHR MS 120- FLA
- FHR MS120-FLA
- FHR-Star300BOX
- FHR.Boxx.400-PVD
- FHR.Flash.50-Module
- FHR.Micro.100-RIE
- FHR.Micro.150-DuoPVD
- FHR.Micro.150-MonoEVA
- FHR.Micro.150-PECVD
- FHR.Micro.160-FLA
- FHR.Micro.160-IBE-RIE
- FHR.Micro.200-ALD
- FHR.Micro.200-PVD
- FHR.Micro.300-Clean
- FHR.Star.300 (PVD)
- FT-CZ2208A
- GEMINI 3E CVD
- GigaStep
- GLOVEBOX
- GSL-1100X-PECVD
- GSL-1100X-SPC12-LD
- GSL-1700X-SPC-2
- GSL-1800X-SBC2-LD
- Heidelberg DWL 2000
- Heidelberg DWL 4000
- Heidelberg DWL 66+
- Heidelberg DWL 66FS
- Heidelberg DWL 66XL+
- Heidelberg DWL 8000
- Heidelberg Instruments Mikrotechnik
- Heidelberg ULTRA 200
- Heidelberg VPG 1600
- Heidelberg VPG+ 200
- Heidelberg VPG+ 400
- Heidelberg VPG+ 800; Heidelberg VPG+ 1100; Heidelberg VPG+ 1400
- Heidelberg µPG 101
- HEXAGON
- INERT Technology
- INTREPID ES CVD
- INTREPID XP CVD
- Invacu VSU12-V5
- Invacu VSU20
- Invacu VSU28
- JEOL
- Jeol JAMP-9500F
- Jeol JBX-Series
- Jeol JEM-2200FS
- Jeol JIB-4600FMultibeam
- Jeol JSM-7800F
- Jeol JXA-8530F
- Jipelec JetFirst RTP
- Jipelec Jetlight ANNEAL
- Jipelec JetStar RTA
- KLOE
- KLOE Dilase 250 LDI
- KLOE Dilase 650 LDI
- KLOE Dilase 750 LDI
- KLOE UV-KUB 1
- KLOE UV-KUB 2
- KLOE UV-KUB 3
- KLOE UV-KUB 6
- KLOE UV-KUB 9
- Kokusai Electric
- Kokusai Electric DD-803V
- Kokusai Electric QUIXACE (QUIXACE-L/L) DD-1206V-DF 300 mm
- Kokusai Electric QUIXACE DJ-1206VN-DF (Aldinna)
- Kokusai Electric QUIXACE II ALD High-k 300 mm (ALD)
- Kokusai Electric Quixace II DD-1206V-DF NITRIDE 300 mm
- Kokusai Electric Quixace II DJ-1206VN-DF Doped Poly 300 mm
- Kokusai ElectricVertron DJ-803V
- LAM Research
- Lam Research LAM 2300 Exelan FLEX / FLEX 45 (RIE/TCP)
- Lam Research LAM 2300 Syndion TSV (RIE/TCP)
- Lam Research LAM 2300 Versys Kiyo (RIE/TCP/MW)
- Lam Research LAM 2300 Versys Kiyo 45 (RIE/TCP/MW)
- Lam Research LAM 2300 Versys Metal (RIE/TCP/MW)
- Lam Research LAM 2300 Versys Poly / Star T (RIE/TCP/MW)
- Lam Research LAM Alliance A4 TCP 9400 DFM (ICP/CCP/MW)
- Lam Research LAM Alliance A6 9400 PTX (RIE/TCP)
- Lam Research LAM Alliance A6 9600 DFM (RIE/TCP/MW)
- Lam Research LAM Alliance A6 9600 PTX (RIE/TCP/MW)
- Lam Research LAM Alliance A6 Exelan HPT (RIE/TCP)
- Lam Research LAM Alliance A6 TCP 9400 DFM (RIE/TCP)
- Lam Research LAM TCP 9400 SE(RIE/TCP)
- Lam Research LAM VECTOR Express / Extreme (PECVD)
- LAPECVD
- LOTUS systems – Линия жидкостной химической обработки
- LOTUS systems – Установка жидкостной химической обработки
- LOTUS systems 1
- LOTUS systems 2
- LPE
- LPE PE 106 CVD
- LPE PE 2061S CVD
- LPE PE 3061 CVD
- Mask Etcher Series
- MEYER BURGER BRICKMASTER
- MEYER BURGER BRICKMASTER
- MEYER BURGER BS 801 (805)
- MEYER BURGER BS 801 (805)
- MEYER BURGER BS 806
- MEYER BURGER BS 806
- MEYER BURGER BS 830
- MEYER BURGER DS 264
- MEYER BURGER DS 271
- MEYER BURGER TS 207 SERIES 10
- MEYER BURGER TS 207 SERIES 13
- MEYER BURGER TS 207 SERIES 8
- Meyer Burger Wafertec
- MIXTURA Small
- MTI Corporation
- MultiStep
- Nano
- Nanofab 700 (800 Agile)
- Navigator™ 6
- Navigator™ 8
- NEO 200 Series
- NEO 2000 Series
- NEO 200A Series
- NEO 2400 Series
- NEO 300 Series
- NEO 3000 Series
- NEO 300A Series
- NEO 3400 Series
- NID Dryer
- Nordson MARCH
- Nordson MARCH MesoSPHERE
- Nordson MARCH RIE-1701 (RIE)
- Nordson MARCH StratoSPHERE
- Odyssey HDRF
- ORBIS™ 1000
- ORBIS™ 3000
- ORBIS™ Alpha™
- OTF-1200X-50S-PE-SL
- OTF-1200X-II-50-PEMSL
- OTF-1200X-II-PEC4
- OTF-1200X-PEC4LV
- Oxford Instruments
- PCE-22
- PCE-44-LD
- PE-100
- PE-200
- PE-25
- PE-25 Venus
- PE-50
- PE-50 Venus
- PE-50 XL
- PE-50 XL Venus
- PE-75
- PE-75 Venus
- Pinnacle
- Plasma Etch
- Plasma Etch BT-1(PE/RIE)
- Plasma Etch Magna(PE)
- PLASMA-THERM
- PlasmaPro 100
- PlasmaPro 100 Cobra
- PlasmaPro 100 Estrelas
- PlasmaPro 100 ICPCVD
- PlasmaPro 100 PECVD
- PlasmaPro 100 Polaris
- PlasmaPro 100 RIE
- PlasmaPro 1000 Astrea
- PlasmaPro 1000 Stratum
- PlasmaPro 80 Cobra65 ICP
- PlasmaPro 80 ICPCVD
- PlasmaPro 80 PECVD
- PlasmaPro 80 RIE
- PlasmaPro 800 plus
- PlasmaPro NGP 80
- PureSolv
- PURUS DUPLEX
- PURUS MAXIM
- PURUS SIMPLEX
- PVA TePla
- PVA TEPLA
- PVA TEPLA CGS-Lab
- PVA TEPLA EKZ 2700
- PVA TEPLA EKZ 3000
- PVA TEPLA EKZ 3500
- PVA TEPLA FZ 14
- PVA TEPLA FZ 14 M
- PVA TEPLA FZ 30
- PVA TEPLA Kronos
- PVA TEPLA Multi Crystallizer VGF 732 Si HC
- PVA TEPLA SC 22
- PVA TEPLA SiGe-Epitaxie Typ Delta
- PVA TEPLA SR 110
- Ramgraber
- RIBER
- Riber Compact 21 MBE
- Riber Epineat MBE
- Riber Epineat SiGe MBE
- Riber EVA 32 MBE
- Riber MBE 32
- Riber MBE 49
- Riber MBE 6000
- Riber MBE 7000
- Riber SIVA 45 MBE
- Rigaku
- Rigaku AZX400
- Rigaku MFM310
- Rigaku SmartLab
- Rigaku SVEE300
- Rigaku TXRF 3760
- Rigaku TXRF 3800e
- Rigaku TXRF V310, Rigaku TXRF 310e, Rigaku TXRF 310
- Rigaku TXRF-V450
- Rigaku WaferX 310
- Rigaku WDA-3650
- SALE
- SAMCO
- SAMCO PC-1100(RIE/PE)
- SAMCO PC-300(RIE/PE)
- SAMCO PC-5000(PE)
- SAMCO PD-100ST (PECVD)
- SAMCO PD-2203L (PECVD)
- SAMCO PD-220LC (PECVD)
- SAMCO PD-220N, NA (PECVD)
- SAMCO PD-220NL (PECVD)
- SAMCO PD-270STL(PECVD)
- SAMCO PD-270STP (PECVD)
- SAMCO PD-330STLC(PECVD)
- SAMCO PD-3800 (PECVD)
- SAMCO PD-3800L (PECVD)
- SAMCO PD-4800 (PECVD)
- SAMCO PD-5400 (PECVD)
- SAMCO RIE-100iPC (ICP)
- SAMCO RIE-101iPH (ICP)
- SAMCO RIE-10iP (ICP)
- SAMCO RIE-10NR
- SAMCO RIE-1C
- SAMCO RIE-200C
- SAMCO RIE-200iP (ICP)
- SAMCO RIE-200LC
- SAMCO RIE-200NL
- SAMCO RIE-212IP (ICP)
- SAMCO RIE-230iPC (ICP)
- SAMCO RIE-300NR
- SAMCO RIE-330iPC (ICP)
- SAMCO RIE-400iP (ICP)
- SAMCO RIE-400iPB (ICP)
- SAMCO RIE-600iP (ICP)
- SAMCO RIE-600iPC (ICP)
- SAMCO RIE-800iPB (ICP)
- SAMCO RIE-800iPBC(ICP)
- SCIENTA OMICRON
- SCIENTA OMICRON Charge & spin transport in graphene layers on 2 inch substrates
- SCIENTA OMICRON EVO-25 MBE
- SCIENTA OMICRON EVO-50 MBE
- SCIENTA OMICRON Hybrid (PLD) Laser-MBE System
- SCIENTA OMICRON III-N MBE system for 3 inch substrates with additional in situ VT SPM
- SCIENTA OMICRON III-V MBE system for film growth on 4 inch wafers
- SCIENTA OMICRON Lab10 MBE
- SCIENTA OMICRON MBE & Catalysis
- SCIENTA OMICRON PRO-100 MBE
- SCIENTA OMICRON PRO-75 MBE
- SCIENTA OMICRON UHV PLD and MULTIPROBE Compact
- SCIENTA OMICRON UHV SPM / XPS / UPS / MBE
- SCREEN Semiconductor Solutions Co.(DAINIPPON SCREEN)
- SEMCO
- SEMCO LYDOP DIFF
- SEMCO LYDOX OXID
- SEMCO MiniLab
- SEMCO Roll-to-roll Platform
- SEMCO Tunnel Furnace
- SENTECH 500 C (ICP/RIE)
- SENTECH Depolab 200 (PECVD)
- SENTECH Etchlab 200 (RIE)
- SENTECH Instruments
- SENTECH SI 500 D (ICPECVD)
- SENTECH SI 500 PPD (ICPECVD)
- SENTECH SI 500-300(ICP)
- SENTECH SI 500(ICP/RIE)
- SENTECH SI 591 compact (RIE)
- SIMPLEX & DUPLEX
- Singulator MDS-100, MDS-300
- Singulus Stangl Solar
- SOLAR GERULUS PC/DG 3600 (7200)
- SOLAR LNEA
- SOLAR MATERIA PCE
- SOLAR SILEX
- STROZA
- STROZA – Установка для подготовки и распределения NH4OH + DIW
- STROZA – Установка для травления полупроводниковых пластин
- STROZA – Установка отмывки кремниевых пластин
- STROZA – Установка отмывки кремниевых пластин в процессе травления
- STROZA – Установка отмывки кремниевых пластин после полировки
- STROZA – Установка смешения и распределения химиката TMAH
- STROZA – Установка травления кремниевых пластин (нержавеющая сталь)
- STROZA – Установка травления кремниевых труб
- STROZA – Химический вытяжной шкаф для промывки деталей
- STROZA – Химический шкаф для мойки канистр и тары
- STROZA – Химический шкаф для травления и отмывки кремниевых пластин
- STROZA – Химический шкаф для травления пластин
- STROZA – Шкаф для струйного травления краев кремниевых пластин
- STROZA – Шкаф подачи неорганических химикатов
- STROZA – Шкаф подачи органических химикатов
- STROZA – Шкаф распределения подачи химикатов
- STROZA – Шкаф хранения перчаток для чистых помещений
- STROZA – Химический шкаф для работы с кислотами
- SVCS Process Innovation
- SVCS SVaFUR-FP LPCVD
- SVCS SVaFUR-RD LPCVD
- SVCS SVpFUR-FP PECVD
- SVCS SVpFUR-RD PECVD
- SVCS SVсFUR-FP LPCVD
- SVCS SVсFUR-RD LPCVD
- T-Clean
- TEL
- TEL ALPHA-8S
- TEL ALPHA(α)-303i
- TEL Tactras (CCP-RIE/ICP )
- TEL TELFORMULA™
- TEL TELINDY PLUS™
- TEL TELINDY PLUS™ IRad™
- TEL Telius SP (RIE/CCP)
- TEL Triase+ SPAi (HD LPCVD)
- TEL UNITY II (RIE)
- TEL UNITY Me (RIE)
- TEMPRESS
- TEMPRESS QUANTUM HD-POCl3 DIF
- TEMPRESS QUANTUM POCl3, BBr3 DIF
- TEMPRESS SBVF
- TEMPRESS TS-Series POCl3 DIF
- TEMPRESS TS-Series R&D DIF/PECVD
- TEMPRESS TS6 & TS8 series PFS
- TEMPRESS TS6 & TS8 series SBFS
- TERMCO SYSTEMS – Установка для травления кремниевых труб
- TERMCO SYSTEMS – Установки формирования пористого кремния
- TERMCO SYSTEMS – Установки химического осаждения металлов
- TERMCO SYSTEMS – Шкафы закачки для хранения, смешения, подачи химикатов
- TERMCO SYSTEMS – Химические шкафы для подачи химикатов
- Thermco ANNEAL
- Thermco RefurbishedTEL LPCVD
- THERMCO SYSTEM
- Thermco Systems
- Thermco VTR 6000 / 7000 LPCVD
- Thermco x10 benchtop series (R&D)
- Thermco x60 compact series (R&D)
- Thermco серия 2000 LPCV
- Thermco серия 5000 LPCVD
- Thermco серия 8000 LPCVD
- TNSC
- TNSC BMC MOCVD
- TNSC BRC MOCVD
- TNSC HR10000 MOCVD
- TNSC HR3000 MOCVD
- TNSC HR4000 MOCVD
- TNSC HR6000 MOCVD
- TNSC HR8000 MOCVD
- TNSC MOCVD SR23К
- TNSC MOCVD SR24К
- TNSC SR2000 MOCVD
- TNSC SR4000 MOCVD
- TNSC SR6000 MOCVD
- TNSC UR25K MOCVD
- TNSC UR26K MOCVD
- TNSC VR3000 MOCVD
- Tokyo Electron
- Trion Technology
- Trion Technology Apollo (ICP/MW/RIE)
- Trion Technology Gemini (ICP/MW/SST)
- Trion Technology Minilock-Orion III (PECVD)
- Trion Technology Minilock-Phantom III (RIE/RIE+ICP)
- Trion Technology Oracle III (RIE/RIE+ICP/PECVD)
- Trion Technology Orion III (PECVD)
- Trion Technology Phantom III (RIE/RIE+ICP)
- Trion Technology Sirus T2 Table Top (RIE)
- Trion Technology Titan (RIE/RIE+HDICP/PECVD)
- Trymax Semiconductor
- TwinStep
- Tystar
- Tystar LPCVD
- Tystar TYTAN Mini Series
- Tystar TYTAN Nano Series
- Tystar TYTAN Standard Series
- Tystar TYTAN Tabletop Series
- Ultratech AP200, Ultratech AP300
- Ultratech LSA101
- Ultratech LSA201
- Ultratech NanoTech 160
- Ultratech Prisma-ghi
- Ultratech Star 100
- Ultratech Stepper Inc.
- Ultratech UltraMet 100
- UltratechNanoTech 190
- ULVAC Enviro Optima (RIE)
- ULVAC Enviro-1Xa (RIE)
- ULVAC Enviro-1Xa 2C (RIE)
- ULVAC NE-550EXa (ICP/RIE)
- ULVAC NLD-570 (ICP/NLD)
- ULVAC Technologies
- VEECO
- Veeco Discovery 180 (D180) LDM MOCVD
- Veeco Discovery 180 (D180) MOCVD
- Veeco E300 GaNzilla II MOCVD
- Veeco E300 LDM MOCVD
- Veeco E450 GaNzilla MOCVD
- Veeco GEN II MBE
- Veeco GEN III MBE
- Veeco GEN10 MBE
- Veeco GEN20 MBE
- Veeco GEN200 Edge MBE
- Veeco GEN2000 Edge MBE
- Veeco GEN930 MBE
- Veeco GENxplor MBE
- Veeco Pioneer P125 MOCVD
- Veeco Propel Power MOCVD
- Veeco TurboDisc E450 LDM MOCVD
- Veeco TurboDisc E450 MOCVD
- Veeco TurboDisc E475 MOCVD
- Veeco TurboDisc EPIK 700 MOCVD
- Veeco TurboDisc K300 MOCVD
- Veeco TurboDisc K465 MOCVD
- Veeco TurboDisc K465i HP MOCVD
- Veeco TurboDisc K465i MOCVD
- Veeco TurboDisc K475 MOCVD
- Veeco TurboDisc K475i MOCVD
- Veeco TurboDisc MaxBright M MOCVD
- Veeco TurboDisc MaxBright MHP MOCVD
- VERSALINE DSE
- VERSALINE HDPCVD
- VERSALINE ICP/RIE
- VERSALINE PECVD
- VERSALINE RIE
- Versalock
- VISION 310 PECVD
- VISION 320 RIE
- VISION 322 PE/RIE
- VISION 410 PECVD
- VISION 420 RIE
- VTC-16-3HD-LD
- VTC-16-D
- VTC-16-SM
- VTC-2RF
- VTC-3RF
- VTC-600-2HD-LD
- VTC-600-3HD-LD
- VulCanio
- Wet processor manual
- YES-CV200RFS (Downstream)
- YES-ÉcoClean (ICP)
- YES-G1000 (Electron Free/Downstream/RIE)
- YES-G500 (Electron Free/Downstream/RIE)
- Yield Engineering Systems
- Автоматическая система очистки поликристаллических кусков кремния CHUNK STAR
- Автоматическая система электролиза PLATING STAR
- Автоматическая система электрохимической металлизации PLATING STAR
- Ассоциации
- Вытяжной шкаф
- Главная
- Измерения
- Имплантация
- Испытания
- Литография
- Лицензии
- Модель DEGLUE STAR
- Модель TIGER
- О компании
- ОАО «КБТЭМ-ОМО»
- Оборудование
- Оборудование
- Оборудование для IPA сушки
- Очистка лодочек
- Очистка труб
- Партнеры
- Плазмохимия
- Планаризация
- Полуавтоматическая система EMMA
- Проектирование промышленных объектов
- Проектирование чистых помещений
- Реализованные объекты. Научные исследования
- Реализованные объекты. Радиоэлектронное приборостроение
- Реализованные объекты. Фотовольтаика, энергетика, материаловедение
- Реализованные объекты. Электронная промышленность
- Рост слитков
- Рост слитков
- Ручная система электролиза PLATER
- Ручная система электрохимической металлизации PLATER
- Секретарь
- Система жидкостной химической обработки с установкой ополаскивания и сушки
- Система конвейерной очистки пластин кремния INLINE STAR
- Система ополаскивания и сушки SRD
- Система очистки и управления
- Система очистки кварцевых труб QUARTZ TUBE CLEANER
- Система с ручным управлением
- Термопроцессы
- Услуги
- Установка для обработки отдельной пластины SPIN ETCH
- Установка для очистки сточных вод
- Установка для спрей-обработки в кислоте RAMOS SAT
- Установка для спрей-обработки в растворителе RAMOS SST
- Установка ЖХО
- Установка очистки
- Установка очистки
- Установка РХО
- Установка сушки пластин
- Химобработка
- ЭМ-5009М
- ЭМ-5026АМ
- ЭМ-5026Б
- ЭМ-5026М1
- ЭМ-5062М
- ЭМ-5084Б
- ЭМ-5096
- ЭМ-5109
- ЭМ-5186
- ЭМ-5189-02
- ЭМ-5289Б
- ЭМ-5434М
- ЭМ-5634
- Эпитаксия
- Эпитаксия
- Контакты
© СКТО Промпроект 2001-2020