ELS 112SA

  • Установка совмещения и экспонирования полуавтоматическая
  • Размер обрабатываемых пластин: от 200мм до 300мм
  • Материал подложки: Кремний / сапфир / GaAs / Ge / Al2O3 / стекло / кварц / пленка
  • Фоторезист: жидкий/сухая пленка
  • Размер маски:9″ ~ 14″ кварцевая или натриево-кальциевая
  • Мощность лампы:     1.89 КВт
  • Диапазон длин волн: широкополосный источник ( i линия : 365нм /  h линия : 400нм / g линия : 436 нм )
  • Интенсивность излучения:более 15 мВт/ см2 на длине волны 365 nm
  • Неоднородность интенсивности:            менее 5% на подложке 300мм
  • Зона экспонирования:максимально 300 мм x 300 мм
  • Запуск компенсационной системы выравнивания: Автоматически
  • Приведение в контакт: Автоматически
  • Режимы экспозиции: Малый зазор/мягкий контакт/ плотный контакт/ вакуумный контакт
  • Система совмещения: С помощью светодиода (устройства с зарядной связью), управляемым вручную
  • Точность совмещения:±3мкм ( для 300мм )
  • Разрешение L/S: 1мкм на основе режима контакта и толщине фоторезиста 1 мкм
  • Антивибрационный столик: Есть
  • Система управления: На основе ПК
  • Опционально: Частотный фильтр / лампа 500 Вт/ лампа дальнего УФ-излучения / столик для сломанных пластин/ интегрированная функция облучения / ваттметр
  • Движение по оси Z осуществляется серводвигателем, совмещенным с высокоточным датчиком давления, что обеспечивает высокую точность совмещения при работе установки
  • Программируемая смена фильтра: широкая полоса частот / 365 нм (i-линия)
  • Высокое разрешение
  • Высокая точность совмещения
  • Функция памяти: после завершения совмещения первой пластины устройство запоминает координаты, полученные прибором с зарядовой связью (ПЗС). ПЗС будет перемещаться в записанное в памяти положение, чтобы сократить время совмещения
  • Встроенная функция облучения (опционально)
  • Система идентификации изображений (опционально)
  • Собственные программное обеспечение/ аппаратные средства / оптические технические системы компании ELS.

к списку