ELS 106FA-B

  • Установка совмещения и экспонирования полностью автоматическая
  • Размер обрабатываемых пластин от 50мм до 150мм
  • Материал подложки: кремний / сапфир / GaAs / Ge / Al2O3 / стекло / кварц / пленка.
  • Химические вещества: Фоторезист / сухая пленка
  • Размер маски:4″ ~ 7″ кварцевая или натриево-кальциевая
  • Мощность лампы:     250Вт либо 500Вт
  • Диапазон длин волн: широкополосный источник

( i линия : 365нм /  h линия : 400нм / g линия : 436 нм )

Интенсивность излучения:более 16 мВт / см2 на длине волны 365нм

для 250Вт, более 40 мВт / см2 на полосе 365нм для 500Вт

  • Тип источника: ртутная лампа
  • Неоднородность интенсивности: менее 3% на подложке 100мм
  • Зона экспонирования:максимально 150 мм x 150 мм
  • Тип робота:Трёхосевой
  • Режимы экспозиции: Малый зазор / мягкий контакт / жесткий контакт /вакуумный контакт /
  • Точность совмещения:±2мкм по лицевой стороне, ±3мкм по обратной стороне
  • Разрешение:1мкм при контактной литографии с толщиной фоторезиста 1 мкм
  • Время такта:для лицевой стороны менее 36 секунд на такт, для обратной стороны менее 45 секунд на такт
  • Управление:встроенный компьютер
  • Загрузочное устройство/универсальное загрузочное устройство: в комплекте 2 кассеты, пользователь может гибко настроить порядок загрузки пластин.
  • Автоматическая фиксация масок.
  • По оси Z устройство приводится в движение серводвигателем с интегрированным высокоточным датчиком давления, что обеспечивает высокую точность выравнивания.
  • Система экспозиции: 250 Вт / 500 Вт / многоламповая система
  • Программируемая смена фильтра: широкая полоса пропускания / 365 нм
  • Система автоматического совмещения: используйте реальное изображение, чтобы настроить систему, процесс травления не влияет на точность совмещения.
  • Высокое разрешение
  • Высокая точность
  • Собственные программное обеспечение/ аппаратные средства / оптические технические системы компании ELS, быстрое и легкое соответствие запчастей.

к списку